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题名基于同步辐射光刻的多层微纳结构制造(英文)
被引量：2
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作者
李以贵
杉山进
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机构
上海交通大学薄膜与微细技术教育部重点实验室
上海交通大学微米/纳米加工技术国家级重点实验室
日本立命馆大学微系统系
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出处
《纳米技术与精密工程》
EI
CAS
CSCD
2009年第2期186-189,共4页
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基金
国家自然科学基金资助项目(60777016)
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文摘
高分子材料,如甲基丙烯酸甲酯(polymethyl methacrylate,PMMA),由于其价格相对低廉和容易加工,在集成电路和MEMS研究中受到广泛的关注.本文提出了一种基于PMMA基板的多层同步辐射光刻技术,用于制作微驱动器等有移动部件的设备.设计的多层结构包括140个单元的叉指平行电容器,每个电容器的间隔是2,μm,最小尺寸是4,μm,厚度是200,μm,故深宽比达到50∶1.该制造方法具有高深宽比、高产出率及成本低等优点.
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关键词
多层微纳制造
同步辐射光刻
对准工具
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Keywords
multi-layermicro/nanofabrication
synchron radiation lithography
alignment tool
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分类号
TN305
[电子电信—物理电子学]
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