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玻璃微透镜阵列的制作工艺研究
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作者 叶嗣荣 周家万 +3 位作者 刘小芹 钟强 黄绍春 赵文伯 《半导体光电》 CAS CSCD 北大核心 2011年第2期216-219,共4页
对以玻璃为基材的微透镜阵列的制作工艺进行了研究,得出了影响微透镜阵列制作的三个主要因素:玻璃组分、腐蚀方法以及抗蚀掩模层材料。并通过实验详细分析了这三者对实验结果的影响。根据分析结果,选择合适的材料和工艺方法,获得了效果... 对以玻璃为基材的微透镜阵列的制作工艺进行了研究,得出了影响微透镜阵列制作的三个主要因素:玻璃组分、腐蚀方法以及抗蚀掩模层材料。并通过实验详细分析了这三者对实验结果的影响。根据分析结果,选择合适的材料和工艺方法,获得了效果较好的玻璃微透镜阵列,为玻璃微透镜阵列的制作提供了依据和方法。 展开更多
关键词 微透镜阵列 多层抗蚀掩模 玻璃
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