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多晶氧化钨薄膜的制备及其红外反射调制性能研究
被引量:
8
1
作者
黄银松
章俞之
+1 位作者
宋力昕
胡行方
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第6期1263-1268,共6页
通过工艺参数的优化,采用直流反应溅射工艺成功地制备了具有良好的电化学循环稳定性的多晶氧化钨薄膜.Raman散射光谱研究表明:随着锂离子和电子的共同注入,多晶薄膜中的W6+逐渐被还原为W5+.红外反射测试表明:电子注入薄膜后,成为自由载...
通过工艺参数的优化,采用直流反应溅射工艺成功地制备了具有良好的电化学循环稳定性的多晶氧化钨薄膜.Raman散射光谱研究表明:随着锂离子和电子的共同注入,多晶薄膜中的W6+逐渐被还原为W5+.红外反射测试表明:电子注入薄膜后,成为自由载流子,使得氧化钨薄膜表现出一定的金属特性,具有一定的红外反射调制能力.采用该工艺制备的WO3/ITO/Glass结构的发射率可在0.261~0.589的范围内可逆调节.
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关键词
红外反射调制性能
直流反应溅射
多晶氧化钨薄膜
RAMAN散射
发射率
电致变色
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职称材料
题名
多晶氧化钨薄膜的制备及其红外反射调制性能研究
被引量:
8
1
作者
黄银松
章俞之
宋力昕
胡行方
机构
中国科学院上海硅酸盐研究所
出处
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第6期1263-1268,共6页
基金
国家自然科学基金(59932040-2)
文摘
通过工艺参数的优化,采用直流反应溅射工艺成功地制备了具有良好的电化学循环稳定性的多晶氧化钨薄膜.Raman散射光谱研究表明:随着锂离子和电子的共同注入,多晶薄膜中的W6+逐渐被还原为W5+.红外反射测试表明:电子注入薄膜后,成为自由载流子,使得氧化钨薄膜表现出一定的金属特性,具有一定的红外反射调制能力.采用该工艺制备的WO3/ITO/Glass结构的发射率可在0.261~0.589的范围内可逆调节.
关键词
红外反射调制性能
直流反应溅射
多晶氧化钨薄膜
RAMAN散射
发射率
电致变色
Keywords
dc reactive sputtering
polycrystalline tungsten oxide films
infrared reflectance
分类号
O484 [理学—固体物理]
TB383 [一般工业技术—材料科学与工程]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
多晶氧化钨薄膜的制备及其红外反射调制性能研究
黄银松
章俞之
宋力昕
胡行方
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
8
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职称材料
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