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f_T为135GHz的平面结构SiGe异质结双极晶体管的研制
被引量:
1
1
作者
贾霖
倪学文
+6 位作者
莫邦燹
关旭东
张录
宁宝俊
韩汝琦
李永康
周均铭
《北京大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
2001年第3期353-358,共6页
利用多晶硅发射极技术与分子束外延生长SiGe基区技术相结合 ,研制成适于集成的平面结构、发射结面积为 3μm× 8μm的SiGe异质结双极晶体管 (HBT)。室温下该晶体管的直流电流增益 β为 30到 50 ,基极开路下 ,收集极 发射极反向击...
利用多晶硅发射极技术与分子束外延生长SiGe基区技术相结合 ,研制成适于集成的平面结构、发射结面积为 3μm× 8μm的SiGe异质结双极晶体管 (HBT)。室温下该晶体管的直流电流增益 β为 30到 50 ,基极开路下 ,收集极 发射极反向击穿电压BVCEO 为 5V ,晶体管的截止频率fT 为13 5GHz。
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关键词
多晶硅发射极技术
分子束外延SiGe基区
锗硅异质结双极晶体管
研制
下载PDF
职称材料
题名
f_T为135GHz的平面结构SiGe异质结双极晶体管的研制
被引量:
1
1
作者
贾霖
倪学文
莫邦燹
关旭东
张录
宁宝俊
韩汝琦
李永康
周均铭
机构
北京大学微电子学研究所
中国科学院物理研究所
出处
《北京大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
2001年第3期353-358,共6页
基金
国家"九五"科技攻关资助项目! (97 76 1 0 3 0 2 )
文摘
利用多晶硅发射极技术与分子束外延生长SiGe基区技术相结合 ,研制成适于集成的平面结构、发射结面积为 3μm× 8μm的SiGe异质结双极晶体管 (HBT)。室温下该晶体管的直流电流增益 β为 30到 50 ,基极开路下 ,收集极 发射极反向击穿电压BVCEO 为 5V ,晶体管的截止频率fT 为13 5GHz。
关键词
多晶硅发射极技术
分子束外延SiGe基区
锗硅异质结双极晶体管
研制
Keywords
polysilicon technology
MBE
SiGe HBT
分类号
TN321 [电子电信—物理电子学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
f_T为135GHz的平面结构SiGe异质结双极晶体管的研制
贾霖
倪学文
莫邦燹
关旭东
张录
宁宝俊
韩汝琦
李永康
周均铭
《北京大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
2001
1
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职称材料
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