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SEZ揭开业界最高产的采用90NM技术标准的单晶湿处理清洗系统的神秘面纱
1
《集成电路应用》
2003年第7期38-38,共1页
半导体业界领先的单晶清洗技术创新技术的先驱者SEZ集团于近日发布了公司在湿表面预旋转处理技术上的重大突破,在目前的单晶处理方法中,创新的'Da Vinci达芬奇'系列新产品有效地实现了高产出和小空间矛盾统一,最终将以最高水平...
半导体业界领先的单晶清洗技术创新技术的先驱者SEZ集团于近日发布了公司在湿表面预旋转处理技术上的重大突破,在目前的单晶处理方法中,创新的'Da Vinci达芬奇'系列新产品有效地实现了高产出和小空间矛盾统一,最终将以最高水平的可用性和可靠性而称雄市场。
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关键词
SEZ集团
90NM技术标准
单晶湿处理清洗
多气压舱
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职称材料
题名
SEZ揭开业界最高产的采用90NM技术标准的单晶湿处理清洗系统的神秘面纱
1
出处
《集成电路应用》
2003年第7期38-38,共1页
文摘
半导体业界领先的单晶清洗技术创新技术的先驱者SEZ集团于近日发布了公司在湿表面预旋转处理技术上的重大突破,在目前的单晶处理方法中,创新的'Da Vinci达芬奇'系列新产品有效地实现了高产出和小空间矛盾统一,最终将以最高水平的可用性和可靠性而称雄市场。
关键词
SEZ集团
90NM技术标准
单晶湿处理清洗
多气压舱
分类号
TN305.97 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
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1
SEZ揭开业界最高产的采用90NM技术标准的单晶湿处理清洗系统的神秘面纱
《集成电路应用》
2003
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