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题名用于光刻系统仿真的多边形处理算法
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作者
吕楠
史峥
罗凯升
耿臻
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机构
浙江大学超大规模集成电路设计研究所
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出处
《传感器与微系统》
CSCD
北大核心
2014年第9期124-127,共4页
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基金
国家自然科学基金资助项目(61204111)
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文摘
为提高光刻仿真效率,通过对光刻原理进行研究,提出了2种多边形处理算法,将掩模上的多边形图案进行切分优化,将其划分成若干矩形或三角形。在Linux环境下应用C语言设计出一个完整的光刻仿真系统,设计的具体光学参数为:光源波长为193nm,数值孔径为0.3~0.8,部分相干系数可调范围为0.2~0.8,可一次性仿真1μm×1μm到10μm×10μm范围内的45 nm^0.18μm工艺的复杂版图,并通过多次实验进行验证。实验结果表明:原版图图像的边缘细节得到保留,且该算法有效地减少了光刻模拟的计算复杂度与计算时间,整体效率提升20%以上,为当前智能传感器系统芯片的制造节省了宝贵时间。
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关键词
传感器
多边形切分
光刻仿真
光学邻近效应
部分相干系数
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Keywords
sensor
polygon segmentation
lithography simulation
optical proximity correction(OPC)
partiallycoherent coefficient
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分类号
TP312
[自动化与计算机技术—计算机软件与理论]
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