期刊文献+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
共找到1篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
集成电路中多重图形工艺专利技术综述
1
作者 曹丽冉 《科技尚品》 2017年第2期246-246,248,共2页
集成电路制造工艺的发展是以特征尺寸的减小作为原驱动力的,特征尺寸的减小极大程度上取决于光刻技术的发展,多重图形工艺被认为是目前实现22nm技术,甚至14nm技术的重要的可行性解决方案,本文通过对专利文献进行检索,统计和分析了多重... 集成电路制造工艺的发展是以特征尺寸的减小作为原驱动力的,特征尺寸的减小极大程度上取决于光刻技术的发展,多重图形工艺被认为是目前实现22nm技术,甚至14nm技术的重要的可行性解决方案,本文通过对专利文献进行检索,统计和分析了多重图形工艺的发展现状,重点梳理了该领域的专利申请量趋势、分布地区、重要申请人等状况,并对技术发展的趋势进行了预测. 展开更多
关键词 集成电路 多重图形工艺 专利
原文传递
已选择0条
导出题录 引用分析
参考文献
引证文献
 统计分析
检索结果
已选文献
上一页 1 下一页 到第 页
使用帮助 返回顶部