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光栅光调制器阵列翘曲问题分析
1
作者
张智海
黄尚廉
+2 位作者
张洁
孙吉勇
付红桥
《纳米技术与精密工程》
EI
CAS
CSCD
2007年第4期343-346,共4页
提出了一种新颖的面向大屏幕高清晰度显示的光栅光调制器(GLM)阵列.它利用光衍射原理对入射光进行调制.GLM是在硅片上分层构造的器件,采用以铝膜工艺为主的表面微加工工艺.在研制过程中器件翘曲成为制约器件性能的关键问题.从残余应力...
提出了一种新颖的面向大屏幕高清晰度显示的光栅光调制器(GLM)阵列.它利用光衍射原理对入射光进行调制.GLM是在硅片上分层构造的器件,采用以铝膜工艺为主的表面微加工工艺.在研制过程中器件翘曲成为制约器件性能的关键问题.从残余应力分析入手,分析了产生残余应力的原理,并提出使用单金属膜并控制工艺参数的改进方案.另外,采用"减薄梁"的工艺,使大部分应力释放在刚性较弱的支撑梁上.加工结果印证了理论分析和仿真,最终器件获得了较为平坦的表面.
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关键词
光栅光调制器
大屏幕高清晰度显示
衍射
翘曲
残余应力
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职称材料
题名
光栅光调制器阵列翘曲问题分析
1
作者
张智海
黄尚廉
张洁
孙吉勇
付红桥
机构
重庆大学光电技术及系统教育部重点实验室
重庆大学微系统研究中心
出处
《纳米技术与精密工程》
EI
CAS
CSCD
2007年第4期343-346,共4页
基金
重庆市院士基金资助项目(8883)
文摘
提出了一种新颖的面向大屏幕高清晰度显示的光栅光调制器(GLM)阵列.它利用光衍射原理对入射光进行调制.GLM是在硅片上分层构造的器件,采用以铝膜工艺为主的表面微加工工艺.在研制过程中器件翘曲成为制约器件性能的关键问题.从残余应力分析入手,分析了产生残余应力的原理,并提出使用单金属膜并控制工艺参数的改进方案.另外,采用"减薄梁"的工艺,使大部分应力释放在刚性较弱的支撑梁上.加工结果印证了理论分析和仿真,最终器件获得了较为平坦的表面.
关键词
光栅光调制器
大屏幕高清晰度显示
衍射
翘曲
残余应力
Keywords
grating light modulator
large screen and high definition display
diffraction
buckling
residual stress
分类号
TN761 [电子电信—电路与系统]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
光栅光调制器阵列翘曲问题分析
张智海
黄尚廉
张洁
孙吉勇
付红桥
《纳米技术与精密工程》
EI
CAS
CSCD
2007
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