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基于傅立叶变换法的子口径抛光去除函数修正特性分析
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作者 郑楠 陈贤华 邓文辉 《光电子》 2018年第4期192-200,共9页
光学元件的超精密子口径抛光过程中,仿真加工与实际加工过程不一致将导致收敛出现反复,多次迭代冗余加工反而降低元件表面精度与收敛效率。本文基于傅立叶变化法分析子口径抛光去除函数的修正特性,针对其修正能力提出基于算法的修正补偿... 光学元件的超精密子口径抛光过程中,仿真加工与实际加工过程不一致将导致收敛出现反复,多次迭代冗余加工反而降低元件表面精度与收敛效率。本文基于傅立叶变化法分析子口径抛光去除函数的修正特性,针对其修正能力提出基于算法的修正补偿,通过在“非线性系统”下建立去除函数的动态补偿仿真模型,使得仿真过程更加符合实际,提高了确定性抛光过程的准确有效性,为超高精度面形误差修正工艺提供了关键技术支撑。 展开更多
关键词 计算机控制光学表面成形技术 子口径抛光 傅里叶变换 去除函数 修正能力 频谱变换
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