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题名印制电路板阻焊油墨塞孔对孔铜的影响
被引量:3
- 1
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作者
吴江浩
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机构
昆山市华兴线路板有限公司
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出处
《印制电路信息》
2016年第9期51-55,共5页
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文摘
印制电路板孔铜(金属化孔)不良,其带来的品质后果相当严重,历来为PCB厂商极为关注之缺陷。导致孔铜不良的原因很多,文章仅从阻焊油墨塞孔之角度,论述其对孔铜之影响。
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关键词
油墨塞孔
不饱满
微蚀药水
孔铜偏薄
孔铜断裂
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Keywords
Solder Mask Plugged-Hole
Unfilled
Micro-Etching Liquid
Thin Copper in Hole
Fracture of Copper in Hole
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分类号
TN41
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名PCB孔铜断裂失效分析探讨
被引量:1
- 2
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作者
刘顺华
刘兴龙
王君兆
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机构
中车青岛四方车辆研究所有限公司
深圳市美信咨询有限公司
深圳市美信检测技术股份有限公司
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出处
《印制电路信息》
2021年第2期38-40,共3页
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文摘
针对PCB在SMT后出现的通孔开路问题,本文结合孔铜断裂失效案例,通过CT、金相切片、SEM及热分析等分析手段来进行论证,分析PCB孔铜断裂的失效机理,并给出了预防控制建议。
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关键词
印制电路板
孔金属化
孔铜断裂
金相组织
失效分析
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Keywords
Printed Circuit Board
Plated Through Hole
The Fracture of PTH
Metallurgical Structure
Failure Analysis
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分类号
TN41
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名电镀铜孪晶形成原因及对产品质量的影响
被引量:2
- 3
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作者
陈良
刘镇权
王德槐
程静
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机构
广东成德电路股份有限公司
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出处
《印制电路信息》
2012年第S1期274-280,共7页
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文摘
介绍PCB电镀铜过程中,铜孪晶产生的机理、图像及表现,并结合PCB在电镀铜实际生产过程中如何预防铜孪晶的产生,防止PCB板在客户端SMT高温焊接时或后期使用过程中,因铜孪晶问题导致PCB孔铜断裂发生失效的致命缺陷产生。
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关键词
印制电路板
电镀铜孪晶
孔铜断裂
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Keywords
PCB
Plating Copper Twin
Copper Break in the Hole Wall
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分类号
TN41
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名BGA微孔背钻毛刺堵孔改善研究
被引量:1
- 4
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作者
林友锟
张军
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机构
景旺电子科技(龙川)有限公司
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出处
《印制电路信息》
2021年第7期46-49,共4页
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文摘
在印制电路板钻孔生产制程中,毛刺堵孔一直是困扰行业微孔背钻加工的难点和痛点。文章以成品孔径为0.15 mm的16层通信基站板为研究对象,通过对孔铜厚度、背钻钻头直径和切削量等几个关键要素进行研究,给出了改善堵孔的最佳参数。
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关键词
背钻
堵孔
毛刺
孔铜厚度
钻头直径
切削量
背钻深度
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Keywords
Back Drilling
Plugging
Burr
Hole Copper Thickness
Drill Bit Diameter
Chipload
Back Drilling Depth
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分类号
TN41
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名印制线路板电镀均匀性概述
被引量:1
- 5
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作者
王雪涛
乔书晓
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机构
深圳市兴森快捷电路科技股份有限公司
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出处
《印制电路信息》
2010年第S1期116-120,共5页
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文摘
电镀生产实践中,电镀均匀性是检验镀层质量的一个重要指标。本文总结归纳了对表面及孔内镀铜均匀性进行改善的一般性思路与方法,并结合应用实例进行了说明,以期对实际生产提供一定的借鉴与指导意义。
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关键词
电镀均匀性
面铜
孔铜
厚径比
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Keywords
electroplating uniformity
surface layer
hole layer
aspect ratio
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分类号
TN41
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名印制电路板背钻孔方法改进
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作者
刘文略
范伟名
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机构
景旺电子科技(龙川)有限公司
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出处
《印制电路信息》
2021年第3期36-40,共5页
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文摘
背钻孔铜残桩(stub)的大小是影响通信类印制电路板(PCB)信号传输完整性的一个重要因素;本文以机械控深钻制作背钻的方式为研究对象,针对目前行业常用的几种背钻方法缺点;设计并验证了一种新型不使用导电盖板的控深背钻方法,以提高背钻孔铜残桩的控制精度和生产效率。
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关键词
机械控深
背钻
导电盖板
孔铜残桩
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Keywords
Mechanical Control Depth
Back Drill
Conductive Cover Plate
Stub
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分类号
TN41
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名PTHTLTLN电化学腐蚀失效分析及机理探究
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作者
张雪梅
周波
陈蓓
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机构
广州兴森快捷电路科技有限公司
深圳市兴森快捷电路科技股份有限公司
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出处
《印制电路信息》
2018年第A02期428-433,共6页
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文摘
阻焊塞孔不饱满以及裂纹会导致孔铜暴露于空气中,当使用环境湿度较大时,物体表面会形成液膜,在整机使用的过程中,孔铜、液膜与焊盘形成电解池,发生电化学反应,使孔铜腐蚀,出现PTH孔内局部孔铜缺失的现象。导致整机信号不良。文章分享一例阻焊塞孔黑色异物失效分析方法,并结合液膜理论及电化学腐蚀理论对失效机理进行分析。为阻焊塞孔不良导致PTH孔孔铜腐蚀失效分析提供理论依据。
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关键词
阻焊塞孔
孔铜腐蚀
电化学反应
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Keywords
Copper Corrosion
The Solder Resist Plug Hole
Electrochemical Reaction
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分类号
TN41
[电子电信—微电子学与固体电子学]
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