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孔阵腔体屏蔽效能BLT方程修正与拓展分析
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作者 孙会琴 王思飞 田铮 《电光与控制》 CSCD 北大核心 2023年第7期100-105,共6页
以中心位置携带孔缝的机载电子设备屏蔽腔体为研究对象,建立能够计算平面波辐照下腔体屏蔽效能的BLT(Baum-Liu-Tesche)方程。针对Robinson孔阵阻抗计算误差较大这一问题,引入偏心系数C mk修正孔阵阻抗,修正后BLT方程能准确计算开有任意... 以中心位置携带孔缝的机载电子设备屏蔽腔体为研究对象,建立能够计算平面波辐照下腔体屏蔽效能的BLT(Baum-Liu-Tesche)方程。针对Robinson孔阵阻抗计算误差较大这一问题,引入偏心系数C mk修正孔阵阻抗,修正后BLT方程能准确计算开有任意位置孔阵腔体的屏蔽效能。通过对电磁波电场进行矢量分解,实现了任意极化角度下屏蔽腔体屏蔽效能的计算。结果表明,屏蔽腔体屏蔽效能随孔缝数量的增加而升高,极化角度的增大会增强屏蔽腔体电磁屏蔽能力。将BLT方程计算结果与Robinson法结果、CST仿真结果进行对比,证明BLT方程具有准确性,为计算机载电子设备屏蔽腔体屏蔽效能提供了一种有效方法。 展开更多
关键词 机载电子设备 屏蔽腔体 屏蔽效能 BLT方程 孔阵阻抗
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