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C^+轰击铍的分子动力学模拟
被引量:
3
1
作者
孙伟中
赵成利
+3 位作者
张浚源
陈峰
潘宇东
苟富均
《核聚变与等离子体物理》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第3期207-212,共6页
使用分子动力学模拟方法研究了入射能量对C+离子与Be样品表面相互作用的影响。模拟结果表明,随着C+离子的入射能量增大,C+离子注入深度也增加,Be原子的溅射产额近似线性增加,而滞留在样品中的C原子数量变化不大,在C+离子轰击Be样品的初...
使用分子动力学模拟方法研究了入射能量对C+离子与Be样品表面相互作用的影响。模拟结果表明,随着C+离子的入射能量增大,C+离子注入深度也增加,Be原子的溅射产额近似线性增加,而滞留在样品中的C原子数量变化不大,在C+离子轰击Be样品的初始阶段,样品中Be原子的溅射产额较大,而随着C+离子注入剂量的增加,Be原子的溅射产额逐渐减小并趋于稳定。在此作用过程中,在样品表面形成一个富C层,减缓了样品中Be原子的溅射速率,起到了保护Be样品的作用。
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关键词
分子动力学
入射能量
溅射
滞留
富c层
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职称材料
题名
C^+轰击铍的分子动力学模拟
被引量:
3
1
作者
孙伟中
赵成利
张浚源
陈峰
潘宇东
苟富均
机构
四川大学原子核科学技术研究所辐射物理及技术教育部重点实验室
贵州大学等离子体与材料表面作用研究所
核工业西南物理研究院
荷兰皇家科学院等离子体所
出处
《核聚变与等离子体物理》
CAS
CSCD
北大核心
2011年第3期207-212,共6页
基金
国际热核聚变实验堆(ITER)计划专项(2009GB104006)
贵州省优秀青年科技人才培养计划资助课题(700968101)
文摘
使用分子动力学模拟方法研究了入射能量对C+离子与Be样品表面相互作用的影响。模拟结果表明,随着C+离子的入射能量增大,C+离子注入深度也增加,Be原子的溅射产额近似线性增加,而滞留在样品中的C原子数量变化不大,在C+离子轰击Be样品的初始阶段,样品中Be原子的溅射产额较大,而随着C+离子注入剂量的增加,Be原子的溅射产额逐渐减小并趋于稳定。在此作用过程中,在样品表面形成一个富C层,减缓了样品中Be原子的溅射速率,起到了保护Be样品的作用。
关键词
分子动力学
入射能量
溅射
滞留
富c层
Keywords
Mole
c
ular dynami
c
s
In
c
ident energy
Sputtering
Retention
c
arbon-ri
c
h layer
分类号
TL627 [核科学技术—核技术及应用]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
C^+轰击铍的分子动力学模拟
孙伟中
赵成利
张浚源
陈峰
潘宇东
苟富均
《核聚变与等离子体物理》
CAS
CSCD
北大核心
2011
3
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