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对向异材磁控溅射靶制备合金薄膜工艺方法
1
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第5期70-70,共1页
关键词
专利
中国科学院沈阳科学食品研制中心
对向异材磁控溅射靶
制备
合金薄膜
工艺方法
溅射
速率
下载PDF
职称材料
对向异材磁控溅射靶制备合金薄膜工艺方法
2
《科技开发动态》
2001年第8期44-45,共2页
关键词
对向异材磁控溅射靶
制备
合金薄膜
工艺方法
原文传递
题名
对向异材磁控溅射靶制备合金薄膜工艺方法
1
出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002年第5期70-70,共1页
关键词
专利
中国科学院沈阳科学食品研制中心
对向异材磁控溅射靶
制备
合金薄膜
工艺方法
溅射
速率
分类号
O484.1 [理学—固体物理]
下载PDF
职称材料
题名
对向异材磁控溅射靶制备合金薄膜工艺方法
2
出处
《科技开发动态》
2001年第8期44-45,共2页
关键词
对向异材磁控溅射靶
制备
合金薄膜
工艺方法
分类号
TB43 [一般工业技术]
原文传递
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
对向异材磁控溅射靶制备合金薄膜工艺方法
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2002
0
下载PDF
职称材料
2
对向异材磁控溅射靶制备合金薄膜工艺方法
《科技开发动态》
2001
0
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