一种面向蒙皮对缝测量的双线结构光标定方法

针对双线结构光蒙皮对缝测量系统对光平面高精度标定的需求,提出一种基于二维靶标的双线结构光平面标定方法。首先以靶标平面上的基准点为输入,构建靶标平面位姿解算模型,获取其在相机坐标系下的平面方程;然后依据相机的线面模型,对拟合控制点进行深度重建;最后使用特征值法对去噪后的拟合控制点集进行拟合,完成双线结构光平面标定。试验表明,该方法能够同时完成测量系统中两个光平面的标定;标定后系统的对缝间隙重复测量精度优于0.050 mm,对缝阶差重复测量精度优于0.030 mm。