磁性液体射流抛光磁屏蔽系统的设计与试验研究

利用ANSYS软件,对磁性液体射流抛光磨具电磁场磁屏蔽系统的材料和结构进行模拟分析。根据模拟结果设计磁屏蔽系统,结果表明:采用具有低磁阻特性的高导磁性材料双层屏蔽结构,能提高屏蔽效能,减少"漏磁",有效防止工件被磁化。对抛光工作区域磁场进行测试,证明磁屏蔽系统具有较好的屏蔽效果。