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一种基于Au-TiW触点的提高RF MEMS开关寿命的方法 被引量:2
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作者 朱光州 王志斌 +1 位作者 吴倩楠 李孟委 《微纳电子技术》 CAS 北大核心 2022年第8期801-806,812,共7页
针对基于Au-Au触点的射频微电子机械系统(RF MEMS)开关寿命低的问题,提出了一种高寿命RF MEMS开关的研制方法。对比Au与其他金属的硬度、杨氏模量以及方阻,最终选择性能优良的TiW金属作为新触点材料,其制备参数为溅射功率300 W,气压5 mT... 针对基于Au-Au触点的射频微电子机械系统(RF MEMS)开关寿命低的问题,提出了一种高寿命RF MEMS开关的研制方法。对比Au与其他金属的硬度、杨氏模量以及方阻,最终选择性能优良的TiW金属作为新触点材料,其制备参数为溅射功率300 W,气压5 mTorr(1 mTorr=0.133 Pa),溅射时间1 568 s。设计了基于Au-TiW触点的RF MEMS开关工艺流程,给出了详细工艺参数,为进一步提高可靠性,设计了RF MEMS开关封装工艺流程并制作了封装样品。测试比较了基于Au-Au触点的RF MEMS开关与基于Au-TiW触点的RF MEMS开关的寿命与射频性能。结果表明,虽然基于Au-TiW触点的RF MEMS开关的射频性能有所降低,但开关寿命提高了两个数量级。该研究为提高RF MEMS开关的寿命提供了一种解决办法。 展开更多
关键词 微电子机械系统(MEMS) (rf)开关 开关寿命 触点材料 可靠性
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A DESIGN OF 0.25μm CMOS SWITCH
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作者 Han Lei Yang Tao +3 位作者 Xie Jun Wang Yong You Yu Zhang Bo 《Journal of Electronics(China)》 2006年第5期745-747,共3页
Single-Pole Double-Throw (SPDT) broadband switch has been designed in a 0.25gm Complementary Metal Oxide Semiconductor (CMOS) process. To optimize the performance of isolation and insertion loss, based on normal d... Single-Pole Double-Throw (SPDT) broadband switch has been designed in a 0.25gm Complementary Metal Oxide Semiconductor (CMOS) process. To optimize the performance of isolation and insertion loss, based on normal design, the effects of Gate Series Resistances (GSR) on insertion loss and switching time are analyzed for the first time. The compatible GSRs are chosen by the analyses. The fabricated chips were tested and the results show the switch isolation from DC (Direct Current) to 1GHz exhibits 55dB and insertion loss lower than 2.1 dB. 展开更多
关键词 rf (Radio-Frequency) CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor) SWITCH Insertion loss Gate Series Resistance (GSR) Switch time
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