用射频低温氧化法去除未熟烃源岩中的有机质方法研究

利用GP0 2 A高频感应加热设备产生高频磁场 ,等离子体在高频磁场中激活氧气形成活性氧 ,活性氧在低温低压下氧化烃源岩中的有机质 ,从而达到去除有机质并确定其含量的目的。采用射频低温氧化法对我国 7个盆地未熟烃源岩进行了有机质去除的实验 ,结果表明 ,在最佳条件下用 2 0～ 4 0h可把未熟烃源岩中的有机质去除 ,我国 7个盆地未熟烃源岩中有机质的质量含量为 1.5 3%～ 3.17%。