射频磁控溅射参数对Ba_(0.7)Sr_(0.3)TiO_3薄膜结构和性能的影响(英文)

采用射频磁控溅射法在Pt/TiO2/SiO2/Si(100)衬底上制备了Ba0.7Sr0.3TiO3薄膜,研究了工作气压、衬底温度等溅射参数对Ba0 .7Sr0.3Ti O3薄膜结构和电学性质的影响。使用XRD分析了工作气压为2Pa、衬底温度分别为200 ℃、400 ℃、600 ℃(组a) ,以及衬底温度为600 ℃、工作气压分别为1.5Pa、2.0Pa、2.5Pa、3.0Pa和5 .0Pa (组b)两组薄膜的微结构,结果表明工作气压在2.5Pa以下、衬底温度为600℃时沉积的薄膜具有较好的钙钛矿结构。在1.5Pa条件下溅射的薄膜具有明显的(111)择优取向。在2.5Pa时,Pt/Ba0.7Sr0.3TiO3/Pt电容有最优铁电性能,在外加4 V电压(电场为80 kV/cm)下,剩余极化(Pr)和矫顽场(Ec)分别为2.32μC/cm2、21.1 kV/cm。