1
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射频磁控溅射工艺参数对掺钨氧化铟锡透明导电薄膜性能的影响 |
许阳晨
张群
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《复旦学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
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2024 |
0 |
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2
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直流、射频磁控溅射制备钌薄膜的微观结构及电学性能分析 |
沈月
张以棚
许彦亭
巢云秀
唐可
王传军
闻明
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《贵金属》
CAS
北大核心
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2024 |
0 |
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3
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射频磁控溅射制备HfMoNbZrN_(x)薄膜的组织和性能 |
谢明强
施杰
李博海
胡恒宁
汪辉
巫兴胜
张丽
苏齐家
杜昊
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《工具技术》
北大核心
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2024 |
0 |
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4
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磁控溅射时长对复合羟基磷灰石涂层性能的影响 |
张明权
吴兵
唐正强
李屹
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《热加工工艺》
北大核心
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2024 |
0 |
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5
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基于磁控溅射和电子束蒸发合成Mn-Co-Ni-O薄膜 |
赵媛媛
向阳
宋贺伦
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《长春理工大学学报(自然科学版)》
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2024 |
0 |
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6
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射频磁控溅射法制备MoS_(2)薄膜的最佳工艺参数研究 |
张俊峰
孙再征
孔腾飞
蔡根旺
李亚平
胡莎
樊志琴
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《人工晶体学报》
CAS
北大核心
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2023 |
0 |
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7
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射频磁控溅射制备的FeN薄膜结构与磁性能 |
李晓宇
李天明
蒋运石
闫欢
张芦
张志红
王梦佳
何朝雄
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《磁性材料及器件》
CAS
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2023 |
0 |
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8
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射频磁控溅射制备二氧化锡薄膜的气敏特性 |
刘文强
吴鹏举
王瑗瑗
陈庭煜
马鸿雁
王国东
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《传感器与微系统》
CSCD
北大核心
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2023 |
0 |
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9
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基底温度对射频磁控溅射PI基ITO薄膜的影响 |
刘祖一
徐文正
杨旭
汪邓兵
丁正钰
张海峰
许召辉
凤权
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《微纳电子技术》
CAS
北大核心
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2023 |
1
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10
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CdTe薄膜射频磁控溅射法制备研究 |
焦宇泽
杜欣欣
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《光源与照明》
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2023 |
0 |
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11
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射频磁控溅射法制备ZnO薄膜的发光特性 |
王卿璞
张德恒
薛忠营
陈寿花
马洪磊
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《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2003 |
23
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12
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Ar气压对射频磁控溅射铝掺杂ZnO薄膜特性的影响 |
宋登元
王永青
孙荣霞
宗晓萍
郭宝增
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《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2002 |
18
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13
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射频磁控溅射ZnO薄膜的结构和光学特性 |
张源涛
李万程
王金忠
杨晓天
马艳
殷宗友
杜国同
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《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2003 |
11
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14
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射频磁控溅射制备纳米TiO_2薄膜的光电化学行为 |
沈杰
沃松涛
崔晓莉
蔡臻炜
杨锡良
章壮健
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《物理化学学报》
SCIE
CAS
CSCD
北大核心
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2004 |
9
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15
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射频磁控溅射沉积Al/Al_2O_3纳米多层膜的结构及性能 |
朱雪婷
孙勇
郭中正
段永华
吴大平
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《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2013 |
9
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16
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射频磁控溅射ZnO薄膜的光致发光 |
王卿璞
张德恒
薛忠营
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《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2003 |
19
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17
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射频磁控溅射TiO_2/HA复合生物膜的制备与表征 |
陈民芳
刘技文
王玉红
由臣
杨贤金
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《复合材料学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2003 |
7
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18
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Al掺杂ZnO薄膜的射频磁控溅射工艺与光电性能研究 |
刘心宇
江民红
周秀娟
成钧
王仲民
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《材料工程》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2008 |
5
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19
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射频磁控溅射法制备TiB_2涂层及其性能分析 |
孙荣幸
张同俊
戴伟
李松
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《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
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2006 |
10
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20
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射频磁控溅射工艺制备二氧化钒薄膜 |
唐振方
赵健
卫红
张正法
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《人工晶体学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2008 |
8
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