10cm×30cm矩形射频离子束源的研制

本文介绍了射频(Radiofrequency,RF)感应耦合等离子体(Inductivecoupleplasma,ICP)离子束源的设计研究。该射频离子束源可工作于Ar,在使用四栅引出系统时,可获得100—1000eV的离子束。当射频功率为900W,在Ar为工作气体时,束流可达到600mA。在束流为120mA时,距源26cm处,在主轴方向27cm的范围内不均匀性小于±6%。该离子束源可作为大面积离子束刻蚀、离子束抛光等的离子束源。