工艺参数对图案化金属铜膜结构和光学性能的影响

为了系统研究工艺参数对图案化金属铜膜的影响，进一步优化产物的结构和光学性能，研究通过改变薄膜厚度、衬底偏压和衬底温度等工艺参数在玻璃衬底上沉积了图案化金属铜膜。利用粉末x射线衍射仪和紫外可见分光光度计分别研究了工艺参数对图案化金属铜膜的晶体结构和光学吸收特性的影响。研究结果表明，在晶体结构方面，图案化金属铜膜具有良好的Cu（111）择优取向，并且衍射峰强度随薄膜厚度、衬底温度的增加而增强，随衬底偏压的增加而减弱。在光学性质方面，图案化金属铜膜在630-660nm红光波段出现反常光学吸收。而且，吸收峰的强度、峰位和半高宽可以通过调节薄膜厚度、衬底偏压和衬底温度加以控制。

图案化金属铜膜的SIAD法自组装制备

利用新发展的小入射角沉积(SIAD)技术在玻璃衬底上自组装制备了图案化金属铜膜.利用金相显微镜(MM)、扫描电子显微镜(SEM)、透射电子显微镜(TEM)/选区电子衍射(SAED)/能量弥散X射线光谱仪(EDX)以及X射线衍射仪(XRD)等技术对所制备的图案化金属铜膜进行了表征.通过分析对比SIAD和垂直入射沉积(NID)铜沉积物的形貌和结构差异,揭示了图案化金属铜膜的形成机理.