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一种高可靠性IP设计的机理研究及设计实现
1
作者
潘中平
《中国集成电路》
2024年第7期45-49,共5页
本文是基于一种实现高可靠性IP设计的物理机理研究,首先探究了影响高可靠性IP设计的物理机理一方面来源于电迁移EM现象造成的“硬伤”,进而探讨了可用来衡量高可靠性IP的平均无故障时间MTTF的计算公式,并据此分析了对应芯片制程工艺演进...
本文是基于一种实现高可靠性IP设计的物理机理研究,首先探究了影响高可靠性IP设计的物理机理一方面来源于电迁移EM现象造成的“硬伤”,进而探讨了可用来衡量高可靠性IP的平均无故障时间MTTF的计算公式,并据此分析了对应芯片制程工艺演进的EM加剧效应。再者通过实验分析手段考察了影响高可靠性IP设计的噪声因素,界定其属于影响可靠性IP设计的“软伤”,从应对软噪声的角度提出了采用不同于常规的高电压(HV)设计方案,来实现改善高标准单元库IP设计的可靠性,进而提出一种实现高可靠性IP设计的可行方案,这一方案同时具有减小漏电流效果。
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关键词
电迁移
小山包
(
形状
)
阻塞
物
标准单元库
低压差线性稳压器
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职称材料
题名
一种高可靠性IP设计的机理研究及设计实现
1
作者
潘中平
机构
上海凌云阁芯片科技有限公司
出处
《中国集成电路》
2024年第7期45-49,共5页
文摘
本文是基于一种实现高可靠性IP设计的物理机理研究,首先探究了影响高可靠性IP设计的物理机理一方面来源于电迁移EM现象造成的“硬伤”,进而探讨了可用来衡量高可靠性IP的平均无故障时间MTTF的计算公式,并据此分析了对应芯片制程工艺演进的EM加剧效应。再者通过实验分析手段考察了影响高可靠性IP设计的噪声因素,界定其属于影响可靠性IP设计的“软伤”,从应对软噪声的角度提出了采用不同于常规的高电压(HV)设计方案,来实现改善高标准单元库IP设计的可靠性,进而提出一种实现高可靠性IP设计的可行方案,这一方案同时具有减小漏电流效果。
关键词
电迁移
小山包
(
形状
)
阻塞
物
标准单元库
低压差线性稳压器
Keywords
electronmigration
hill lock
standard cell library
LDO
分类号
TN402 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
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1
一种高可靠性IP设计的机理研究及设计实现
潘中平
《中国集成电路》
2024
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