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在照相明胶层中金催化的铜无电沉积 被引量:2
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作者 张宜恒 张广祥 +2 位作者 闫天堂 俞书勤 庄思永 《物理化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 1998年第11期975-980,共6页
利用X射线光电子能谱的原位氩离子束溅射和ESCA技术,研究了无电沉积前后照相明胶中硫元素化学形态的变化,对无电沉积所形成的导电膜进行了深度剖析,探讨了照相明胶层中金催化的铜无电沉积机理.结果表明:在酸性条件下(pH=3.20)... 利用X射线光电子能谱的原位氩离子束溅射和ESCA技术,研究了无电沉积前后照相明胶中硫元素化学形态的变化,对无电沉积所形成的导电膜进行了深度剖析,探讨了照相明胶层中金催化的铜无电沉积机理.结果表明:在酸性条件下(pH=3.20),明胶大分子的蛋氨酸亚砜对AU3+仍具有较大的还原能力,明胶大分子的蛋氨酸、蛋氨酸亚砜将Au3+最终还原为胶态金,而蛋氨酸和蛋氨酸亚砜均被氧化为蛋氨酸砜.在无电沉积初期,胶态金作为催化中心引发铜的无电沉积,之后的反应为Cu2+在新生态铜的自催化下的还原沉积.在无电沉积过程的碱性条件下(pH=12.50),明胶中的部分蛋氨酸砜又被甲醛还原为蛋氨酸. 展开更多
关键词 照相明胶 无电沉积 金催化 尼龙纤维芯电缆
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