纳米复合Fe-R-O(R=Hf,Nd,Dy)薄膜面内铁磁共振研究

用反应溅射方法制备了Fe R O(R =Hf,Nd ,Dy)薄膜 ,并在 4 0 0℃时对样品进行退火处理 ,x射线衍射和电子衍射结果显示纳米量级的Fe晶粒镶嵌在非晶氧化物基质中 .用面内铁磁共振技术仔细测量了样品的共振吸收谱 ,并分析了局域磁化强度Ms 与晶粒尺寸的关系 .制备态样品呈现出显著的面内单轴各向异性 ,退火后单轴各向异性显著减弱 ,取而代之的是较弱的磁晶各向异性 .利用公式 (ω γ) 2 =(Hres+HK) (Hres+HK +4πMs)求出局域磁化强度Ms,它随晶粒尺寸减小而减小 ,在晶粒尺寸为 5nm时仅约为Fe体材料饱和磁化强度的 30 % .局域磁化强度与根据Fe的体积百分比算出的体磁化强度相比偏小 ,并与晶粒尺寸的倒数呈线性关系 ,说明在晶粒表面存在较强的磁矩钉扎效应 .