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光敏二极管电压特性研究
被引量:
8
1
作者
吴会利
郑莹
《微处理机》
2016年第4期16-18,共3页
光敏二极管是在外加反向偏压的情况下体现出其光电转换特性的。对于光敏器件来说,其反向击穿特性至关重要。首先对光敏二极管的结构、工作原理进行了概述,从浅结光敏区、过程缺陷、表面应力、不同结构等方面展开对光敏二极管电压特性的...
光敏二极管是在外加反向偏压的情况下体现出其光电转换特性的。对于光敏器件来说,其反向击穿特性至关重要。首先对光敏二极管的结构、工作原理进行了概述,从浅结光敏区、过程缺陷、表面应力、不同结构等方面展开对光敏二极管电压特性的研究工作。通过实验验证及器件工艺模拟仿真,分别采用快速退火、改进表面清洗工艺、掺氯氧化工艺、采用合理的淀积温度及速率、采用双层膜结构或热退火工艺等方式改善和提高光敏二极管的电压特性。通过研究其反向击穿电压特性,保证其电压参数的同时,可以有效提升产品其它参数如暗电流、光生电压等的控制水平。
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关键词
反向击穿电压
光电流
暗电流
浅结光敏区
层错缺陷
晶格
缺陷
沾污
表面应力
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职称材料
题名
光敏二极管电压特性研究
被引量:
8
1
作者
吴会利
郑莹
机构
中国电子科技集团公司第四十七研究所
出处
《微处理机》
2016年第4期16-18,共3页
文摘
光敏二极管是在外加反向偏压的情况下体现出其光电转换特性的。对于光敏器件来说,其反向击穿特性至关重要。首先对光敏二极管的结构、工作原理进行了概述,从浅结光敏区、过程缺陷、表面应力、不同结构等方面展开对光敏二极管电压特性的研究工作。通过实验验证及器件工艺模拟仿真,分别采用快速退火、改进表面清洗工艺、掺氯氧化工艺、采用合理的淀积温度及速率、采用双层膜结构或热退火工艺等方式改善和提高光敏二极管的电压特性。通过研究其反向击穿电压特性,保证其电压参数的同时,可以有效提升产品其它参数如暗电流、光生电压等的控制水平。
关键词
反向击穿电压
光电流
暗电流
浅结光敏区
层错缺陷
晶格
缺陷
沾污
表面应力
Keywords
Reverse breakdown voltage
Photo current
Dark current
Shallow photosensitive area
Stacking fault defect
Crystal defect
Contamination
Surface stress
分类号
TN4 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
作者
出处
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被引量
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1
光敏二极管电压特性研究
吴会利
郑莹
《微处理机》
2016
8
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