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层间介质层平坦化新技术:化学-机械抛光
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作者 洪雷平 《微电子技术》 1995年第5期54-56,共3页
关键词 抛光 层间介质层 平垣化 半导体器件
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TFT-LCD白画面边缘发青不良机理分析及改善研究 被引量:1
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作者 辛利文 潘信桦 +5 位作者 方业周 赵生伟 张小凤 张文龙 张伟 石天雷 《电子工艺技术》 2017年第6期359-363,共5页
TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display)在显示白画面的时候,屏幕边缘有发青的现象,这种不良现象严重影响人们的观赏感受,需要将这种不良进行改善。经过分析得知,TFT(Thin Film Transistor)基板的层间介质层(interlayer ... TFT-LCD(Thin Film Transistor-Liquid Crystal Display)在显示白画面的时候,屏幕边缘有发青的现象,这种不良现象严重影响人们的观赏感受,需要将这种不良进行改善。经过分析得知,TFT(Thin Film Transistor)基板的层间介质层(interlayer dielectrics,ILD)的氢化氮化硅(SiN_X:H)薄膜厚度偏薄,致使TFT基板的蓝光透过率偏大,从而导致TFT-LCD在显示白画面时,白光中蓝色光的比例偏大,最终出现发青现象。通过增加SiN_X:H薄膜的沉积厚度及减少SD(Source and Drain)干法刻蚀时间,使无SD覆盖的ILD膜层的SiN_X:H薄膜厚度增加,减小了TFT基板的蓝光透过率,最终TFT-LCD的白画面颜色均匀,无发青现象。 展开更多
关键词 薄膜晶体管液晶显示 层间介质层 氢化氮化硅 透过率 青色
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