有机蒙脱土的制备及表征

利用实验室常规条件，分别采用十二烷基三甲基溴化铵（DTAB）、十四烷基三甲基溴化铵（TTAB）和十六烷基三甲基溴化铵（CTAB）和蒙脱土（MMT）制备有机蒙脱土（OMMT）。X-射线衍射（XRD）表明：季铵盐阳离子进入到了MMT晶片层间，MMT晶片层被撑开，在用量为100～150mmol／100g MMT时，由DTAB、TTAB、CTAB制备的OMMT的衍射角θ和层间距d（001）分别为2．43～2．45°、2．41～2．43°、2．24～2．28°和1．803～1．819nm、1．819～1．833nm、1．938～1．973nm，比MMT的03．50^°和d（001）1．263nm大为改善；傅里叶变换红外光谱（FTIR）表明，MMT和。DDAB、TTAB、CTAB之间没有化学键合作用，只有物理作用。