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Mn^+离子注入的GaN薄膜的光学性质及其磁性 被引量:1
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作者 李杰 张荣 +5 位作者 修向前 卢佃清 俞慧强 顾书林 沈波 郑有炓 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第12期1276-1279,共4页
利用离子注入法将磁性离子 Mn+注入到采用金属有机化学气相沉积法制备的 Ga N薄膜中 ,获得了稀磁半导体 (Ga,Mn) N.光致发光谱结果显示由于 Mn的注入 ,使 Ga N中常见的黄带发射被大大抑制 .在反射和吸收光谱中 ,观察到锰引入的新吸收带 ... 利用离子注入法将磁性离子 Mn+注入到采用金属有机化学气相沉积法制备的 Ga N薄膜中 ,获得了稀磁半导体 (Ga,Mn) N.光致发光谱结果显示由于 Mn的注入 ,使 Ga N中常见的黄带发射被大大抑制 .在反射和吸收光谱中 ,观察到锰引入的新吸收带 ,分析表明该带是由电荷转移过程和锰引入能级 (价带顶上 310 m e V处 )的吸收组成的 .透射光谱显示 (Ga,Mn) N的光学带隙发生了红移 ,计算表明该红移量为 30± 5 m e V.震动样品磁强计的测量结果证实了 Mn掺杂的 Ga N样品在室温下具有铁磁性 . 展开更多
关键词 稀磁半导体 DMS GAN薄膜 Mn+ 铁磁性 居里转变温度 离子注入 光学性质 光致发光谱
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