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工业硅粉磁性物质组成特征分析及去除
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作者 张习松 慕道焱 +1 位作者 侯海波 李日红 《内蒙古科技大学学报》 CAS 2024年第1期37-40,共4页
采用ICP及XRF等方法分析了本公司工业硅粉中磁性物质的成分。研究结果表明:工业硅粉磁性物质中主要构成为铁、铝、钙3种元素,其中铁元素含量最高。据此在冷氢化下料口增设磁选机设备可减少75%左右的磁性物质,有效提升了工业硅粉的使用效... 采用ICP及XRF等方法分析了本公司工业硅粉中磁性物质的成分。研究结果表明:工业硅粉磁性物质中主要构成为铁、铝、钙3种元素,其中铁元素含量最高。据此在冷氢化下料口增设磁选机设备可减少75%左右的磁性物质,有效提升了工业硅粉的使用效率,保障了生产工艺安全平稳运行。 展开更多
关键词 工业硅粉 磁性物质 组成特征 磁选机
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波长色散X射线荧光光谱法测定工业硅粉中Al含量不确定度评定
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作者 刘涛 胡阳 +1 位作者 陈雪刚 吴作木 《云南化工》 CAS 2023年第11期82-84,共3页
讨论采用波长色散X射线荧光法测定多晶硅生产用工业硅粉中Al含量时,可能对分析结果产生不确定的各种原因,包括设备的重复性、标准物质、标准曲线拟合等。通过分析评估可以得知,当工业硅中铝质量分数为0.137%时其扩展不确定度为0.00920%... 讨论采用波长色散X射线荧光法测定多晶硅生产用工业硅粉中Al含量时,可能对分析结果产生不确定的各种原因,包括设备的重复性、标准物质、标准曲线拟合等。通过分析评估可以得知,当工业硅中铝质量分数为0.137%时其扩展不确定度为0.00920%,在不确定度引入的因素中标准曲线拟合引入的不确定度最大。 展开更多
关键词 工业硅粉 X射线荧光光谱法(XRF法) AL含量 不确定度
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K值法测定工业硅粉中二氧化硅的含量 被引量:5
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作者 高珺 胡耀东 《云南冶金》 2017年第6期48-51,共4页
采用X射线K值法测定工业硅粉中二氧化硅的含量,结果表明,使用X射线K值法对工业硅粉中二氧化硅进行定量相分析,可计算得出工业硅粉中二氧化硅的含量,能对工业硅粉中硅石掺假现象进行监督防治,是一种切实有效的检测方法。
关键词 X射线衍射 K值法 工业硅粉 二氧化硅
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快速测定工业硅粉中铁、铝、钙、钛含量的方法研究 被引量:1
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作者 宗凤云 李建华 +1 位作者 卢刚涛 安亚亚 《内蒙古科技与经济》 2012年第22期105-106,共2页
试样以氢氟酸和硝酸分解,定容后用电感耦合等离子体发射光谱测定铁、铝、钙、钛含量。该方法的检出限可达到:铁0.0038 mg/g,铝0.0012 mg/g,钙0.031 mg/g,钛0.00020mg/g,精密度<5%;铁、铝、钙、钛检验结果与GB/T 14849.4-2008方法检... 试样以氢氟酸和硝酸分解,定容后用电感耦合等离子体发射光谱测定铁、铝、钙、钛含量。该方法的检出限可达到:铁0.0038 mg/g,铝0.0012 mg/g,钙0.031 mg/g,钛0.00020mg/g,精密度<5%;铁、铝、钙、钛检验结果与GB/T 14849.4-2008方法检验结果基本相符;样品分析周期40min~50min。 展开更多
关键词 工业硅粉 电感耦合等离子体发射光谱 快速测定
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快速测定工业硅粉中硼磷含量的方法研究 被引量:1
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作者 宗凤云 李建华 《内蒙古科技与经济》 2012年第23期61-62,共2页
试样以氢氟酸和硝酸分解,定容后用电感耦合等离子体发射光谱测定硼磷含量。该方法中硼的标准样品加入回收率为98.30%~101.66%;磷的标准样品加入回收率为97.30%~101.05%,样品分析周期40min~50min。
关键词 工业硅粉 电感耦合等离子体发射光谱 含量测定
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引入纳米多孔强化工业硅中杂质脱除研究
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作者 李绍元 李玉萍 +1 位作者 陈秀华 马文会 《有色金属科学与工程》 CAS 2015年第6期7-13,共7页
以工业硅粉为原料,分别采用化学刻蚀法,一步金属辅助刻蚀法和两步金属辅助刻蚀方法制备多孔工业硅粉,考查不同氧化剂物种及其浓度对多孔工业硅粉形貌结构及主要金属杂质Fe、Al的去除影响,结果表明:不同的氧化剂物种对粉末多孔硅的形貌... 以工业硅粉为原料,分别采用化学刻蚀法,一步金属辅助刻蚀法和两步金属辅助刻蚀方法制备多孔工业硅粉,考查不同氧化剂物种及其浓度对多孔工业硅粉形貌结构及主要金属杂质Fe、Al的去除影响,结果表明:不同的氧化剂物种对粉末多孔硅的形貌结构和Fe、Al杂质的去除都有重要影响.相比而言,金属纳米颗粒辅助刻蚀方法在孔道生长速率、孔道形貌结构调控方面均表现更加出色,通过选取合适的氧化剂种类和浓度,可以高效地获得孔径在50~300 nm之间,孔深在约60μm范围内可调的多孔工业硅粉,纳米孔道的引入对工业硅中主要金属杂质Fe、Al的去除均表现出较好的促进作用,特别是两步金属纳米颗粒辅助刻蚀技术对增强Fe、Al杂质的去除作用最为明显,在较优试验条件下,Fe、Al杂质的去除效率分别可达99.8%和94.7%. 展开更多
关键词 工业硅粉 化学刻蚀 金属辅助化学刻蚀 多孔工业硅 杂质去除
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硅粉杂质对三氯氢硅合成启动及运行的影响 被引量:6
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作者 周谧 屈敏 +1 位作者 黎展容 蒲晓东 《有机硅材料》 CAS 2010年第6期377-379,共3页
讨论了工业硅粉中Fe、Al、Ca等杂质的含量对三氯氢硅合成系统的启动以及正常运行时的影响,并选择不同杂质含量的硅粉进行实验,以找到最适合三氯氢硅合成的生产工艺。
关键词 三氯氢硅 合成 工业硅粉 三氯化铝
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有机硅甲基单体合成的研究进展 被引量:4
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作者 邢爱民 胡明实 +2 位作者 马文会 杨玺 何云飞 《有机硅材料》 CAS 2021年第5期61-68,共8页
综述了有机硅甲基单体合成的研究进展,重点介绍了二甲基二氯硅烷合成的原理和影响因素,包括硅粉性质、催化体系、操作条件等,并展望了其合成的发展趋势。
关键词 有机硅 工业硅粉 催化剂体系 操作条件
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气体容量法测定单质硅的改进
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作者 翟晓东 曲余玲 颜野 《理化检验(化学分册)》 CAS CSCD 北大核心 2015年第1期11-13,共3页
对测定单质硅的气体容量法进行了改进,在测量装置中增加了恒温系统、柱形称样器,并扩大了量气管的量程。最佳反应碱度为200g·L-1氢氧化钠溶液65mL,反应时间为1h。对不同含量单质硅样品进行测定,测定值的相对标准偏差(n=6)在0.32%~0... 对测定单质硅的气体容量法进行了改进,在测量装置中增加了恒温系统、柱形称样器,并扩大了量气管的量程。最佳反应碱度为200g·L-1氢氧化钠溶液65mL,反应时间为1h。对不同含量单质硅样品进行测定,测定值的相对标准偏差(n=6)在0.32%~0.47%之间,偏差在-0.45%~0.40%之间。 展开更多
关键词 气体容量法 单质硅 工业硅粉
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