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纳米时代的可制造性设计 被引量:2
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作者 付本涛 郑学仁 《微电子学》 CAS CSCD 北大核心 2007年第4期532-537,共6页
集成电路产业在遵循摩尔定律发展进入纳米时代后,制造工艺效应对芯片电学性能的影响越来越大,使得在设计的各个阶段都必须考虑可制造性因素。介绍了可制造性设计中的分辨率增强技术、工艺可变性,以及建立可制造性设计机制中的多方合作... 集成电路产业在遵循摩尔定律发展进入纳米时代后,制造工艺效应对芯片电学性能的影响越来越大,使得在设计的各个阶段都必须考虑可制造性因素。介绍了可制造性设计中的分辨率增强技术、工艺可变性,以及建立可制造性设计机制中的多方合作问题。 展开更多
关键词 集成电路 可制造性设计 分辨率增强 工艺可变性 光学邻近校正 化学机械抛光
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