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MOCVD工艺模拟系统
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作者 陈维友 张冶金 +3 位作者 曹晓光 汪爱军 刘彩霞 刘式墉 《吉林大学自然科学学报》 CAS CSCD 1999年第2期72-74,共3页
报道一个 Ｍ Ｏ Ｃ Ｖ Ｄ 全方位综合工艺模拟系统． 该系统包含反应室气流流体力学模拟、化学反应热力学模拟和沉积过程动力学模拟等 ３ 个子系统， 它们可以独立运行， 也可以联合运行．
关键词 MOCVD 工艺模拟系统 半导体 薄膜 沉积过程
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