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基于制作离散性对策的高性能CMOS DAC
被引量:
1
1
作者
于雪峰
石寅
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第11期1211-1216,共6页
基于 CMOS器件的离散性机理及误差消除对策 ,研究了高速、高精度嵌入式 CMOS数 /模转换器 (DAC) IP核的设计与实现 .采用行、列独立译码的二次中心对称电流源矩阵结构 ,优化了电流源开关电路结构与开关次序 ;利用 Cadence的 Skill语言...
基于 CMOS器件的离散性机理及误差消除对策 ,研究了高速、高精度嵌入式 CMOS数 /模转换器 (DAC) IP核的设计与实现 .采用行、列独立译码的二次中心对称电流源矩阵结构 ,优化了电流源开关电路结构与开关次序 ;利用 Cadence的 Skill语言独立开发电流源矩阵的版图排序和布线方法 .在 0 .6 μm N阱 CMOS工艺平台下 ,12 - bitDAC的微分线性误差和积分线性误差分别为 1L SB和 1.5 L SB,在采样率为 15 0 MHz、工作电源为 3.3V时的平均功耗为 14 0 m W.流片一次成功 。
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关键词
D/A转换器
CMOS混合集成电路
制作
工艺离散性
中心对称
Skill语言
下载PDF
职称材料
利用吸合电极实现亚微米电极间隙的可制造性设计
2
作者
郑超越
孙珂
+2 位作者
钟朋
王放
杨恒
《传感器与微系统》
CSCD
北大核心
2024年第1期103-106,110,共5页
提出一种利用吸合电极结构的可制造性设计手段,实现亚微米电极间隙的方法。利用静电力拉动可动电极位移实现超出光刻和刻蚀能力的超窄间隙,使得敏感电极间隙由1.3μm减小至300nm,通过该方法获得的亚微米电极间隙对工艺离散性不敏感,电...
提出一种利用吸合电极结构的可制造性设计手段,实现亚微米电极间隙的方法。利用静电力拉动可动电极位移实现超出光刻和刻蚀能力的超窄间隙,使得敏感电极间隙由1.3μm减小至300nm,通过该方法获得的亚微米电极间隙对工艺离散性不敏感,电极间隙的不一致性可以下降1个数量级。结合本文提出的I2BAR结构的可制造性设计方法,可以实现完整的微机电系统(MEMS)振荡器可制造性设计。
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关键词
吸合电极结构
可制造性设计
亚微米电极间隙
工艺离散性
微机电系统振荡器
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职称材料
题名
基于制作离散性对策的高性能CMOS DAC
被引量:
1
1
作者
于雪峰
石寅
机构
中国科学院半导体研究所
出处
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003年第11期1211-1216,共6页
基金
国家高技术研究与发展计划资助项目(编号 :2 0 0 2 AA1Z12 0 0 )~~
文摘
基于 CMOS器件的离散性机理及误差消除对策 ,研究了高速、高精度嵌入式 CMOS数 /模转换器 (DAC) IP核的设计与实现 .采用行、列独立译码的二次中心对称电流源矩阵结构 ,优化了电流源开关电路结构与开关次序 ;利用 Cadence的 Skill语言独立开发电流源矩阵的版图排序和布线方法 .在 0 .6 μm N阱 CMOS工艺平台下 ,12 - bitDAC的微分线性误差和积分线性误差分别为 1L SB和 1.5 L SB,在采样率为 15 0 MHz、工作电源为 3.3V时的平均功耗为 14 0 m W.流片一次成功 。
关键词
D/A转换器
CMOS混合集成电路
制作
工艺离散性
中心对称
Skill语言
Keywords
D/A converter
CMOS mixed integrated circuit
processing variations
cetroid symmetry
Skill language
分类号
TN432 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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职称材料
题名
利用吸合电极实现亚微米电极间隙的可制造性设计
2
作者
郑超越
孙珂
钟朋
王放
杨恒
机构
中国科学院上海微系统与信息技术研究所传感技术联合国家重点实验室
中国科学院大学
出处
《传感器与微系统》
CSCD
北大核心
2024年第1期103-106,110,共5页
文摘
提出一种利用吸合电极结构的可制造性设计手段,实现亚微米电极间隙的方法。利用静电力拉动可动电极位移实现超出光刻和刻蚀能力的超窄间隙,使得敏感电极间隙由1.3μm减小至300nm,通过该方法获得的亚微米电极间隙对工艺离散性不敏感,电极间隙的不一致性可以下降1个数量级。结合本文提出的I2BAR结构的可制造性设计方法,可以实现完整的微机电系统(MEMS)振荡器可制造性设计。
关键词
吸合电极结构
可制造性设计
亚微米电极间隙
工艺离散性
微机电系统振荡器
Keywords
pull-in electrode structure
manufacturability design
submicron electrode gap
process discreteness
MEMS oscillator
分类号
TN303 [电子电信—物理电子学]
TP212 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
基于制作离散性对策的高性能CMOS DAC
于雪峰
石寅
《Journal of Semiconductors》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2003
1
下载PDF
职称材料
2
利用吸合电极实现亚微米电极间隙的可制造性设计
郑超越
孙珂
钟朋
王放
杨恒
《传感器与微系统》
CSCD
北大核心
2024
0
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