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基于制作离散性对策的高性能CMOS DAC 被引量:1
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作者 于雪峰 石寅 《Journal of Semiconductors》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第11期1211-1216,共6页
基于 CMOS器件的离散性机理及误差消除对策 ,研究了高速、高精度嵌入式 CMOS数 /模转换器 (DAC) IP核的设计与实现 .采用行、列独立译码的二次中心对称电流源矩阵结构 ,优化了电流源开关电路结构与开关次序 ;利用 Cadence的 Skill语言... 基于 CMOS器件的离散性机理及误差消除对策 ,研究了高速、高精度嵌入式 CMOS数 /模转换器 (DAC) IP核的设计与实现 .采用行、列独立译码的二次中心对称电流源矩阵结构 ,优化了电流源开关电路结构与开关次序 ;利用 Cadence的 Skill语言独立开发电流源矩阵的版图排序和布线方法 .在 0 .6 μm N阱 CMOS工艺平台下 ,12 - bitDAC的微分线性误差和积分线性误差分别为 1L SB和 1.5 L SB,在采样率为 15 0 MHz、工作电源为 3.3V时的平均功耗为 14 0 m W.流片一次成功 。 展开更多
关键词 D/A转换器 CMOS混合集成电路 制作工艺离散性 中心对称 Skill语言
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利用吸合电极实现亚微米电极间隙的可制造性设计
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作者 郑超越 孙珂 +2 位作者 钟朋 王放 杨恒 《传感器与微系统》 CSCD 北大核心 2024年第1期103-106,110,共5页
提出一种利用吸合电极结构的可制造性设计手段,实现亚微米电极间隙的方法。利用静电力拉动可动电极位移实现超出光刻和刻蚀能力的超窄间隙,使得敏感电极间隙由1.3μm减小至300nm,通过该方法获得的亚微米电极间隙对工艺离散性不敏感,电... 提出一种利用吸合电极结构的可制造性设计手段,实现亚微米电极间隙的方法。利用静电力拉动可动电极位移实现超出光刻和刻蚀能力的超窄间隙,使得敏感电极间隙由1.3μm减小至300nm,通过该方法获得的亚微米电极间隙对工艺离散性不敏感,电极间隙的不一致性可以下降1个数量级。结合本文提出的I2BAR结构的可制造性设计方法,可以实现完整的微机电系统(MEMS)振荡器可制造性设计。 展开更多
关键词 吸合电极结构 可制造性设计 亚微米电极间隙 工艺离散性 微机电系统振荡器
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