海洋石油平台调试作业工艺隔离安全管理

在陆地和海洋平台设备调试时,由于大量设备是靠机械能、化学能或者热能来驱动或者设备内含有高压气体和液体、高温介质等危险能源,为防止海洋平台设备在调试期间造成人员伤害、设备损坏、环境污染,调试前,必须要对调试的区域进行能源隔离与锁定。一方面可以防止调试作业人员意外受伤,同时也可以避免调试作业干扰到其他作业的进行。对调试期间发现的非正常设备进行隔离锁定标记,使作业人员能够意识到存在的风险,防止操作不当或误操作造成人员受伤、设备损坏、环境污染等严重后果。

安全隔离工艺在长北合作区块中的应用

从安全隔离工艺的概念、类型和方法入手,阐述了长北气田一期开发过程中安全隔离工艺存在的问题和经验教训,强调了安全隔离工艺在施工、检维修中的重要性,指出了二期开发中隔离工艺的改进,也为今后长北工艺操作、检维修提供了可靠的实践依据。

深亚微米隔离技术——浅沟槽隔离工艺

研究了浅沟槽隔离 (STI)工艺的各主要工艺步骤 :沟槽的形成、沟槽顶角的圆滑、沟槽填充以及化学机械抛光平坦化 .使用器件模拟软件 Medici和 Davinci分析了 STI结构的隔离性能以及沟槽隔离 MOSFET的

液压开槽机连续槽法造墙中隔离工艺探析

1 液压开槽机连续槽法造墙技术原理液压开槽机连续槽法造墙主要机械设备是YK系列液压开槽机,配套设备有清槽机、造浆机、砼搅拌机、浇筑机及供电设施等。液压开槽机是由液压缸带动装在导向架内的牵拉架及装在牵拉架上的锯体一起做上下往复运动,在锯体自重及施加前进方向力的作用下,利用锯体上的刀排切削土体,边切削边前移,被切削掉的土体和切屑,悬浮于泥浆中或落入槽底部后由反循环排渣系统排出槽孔。

防渗涂料对内花键齿轮渗碳隔离工艺的影响

采用显微组织分析、机械加工、硬度测试等试验方法对内花键齿轮的渗碳隔离工艺进行了研究,并分析了涂料的涂刷工艺性能、流平性、涂层厚度均匀性、耐高温性能等指标对渗碳隔离效果的影响,结合内花键齿轮渗碳工艺,对比不同防渗涂料的防渗碳效果,并进行了试验验证。试验结果表明:在930℃×24 h渗碳工艺条件下,1#涂料具有良好的工艺性能和渗碳隔离效果,可以满足内花键齿轮高效率、高稳定性、高防护性能的渗碳隔离技术要求。渗碳隔离工艺的研究,可为后期的推广应用提供技术支撑。

注水井环空保护及软密封隔离工艺技术在八面河油田的应用

根据八面河油田注水井油、套管腐蚀特点,室内有针对性地配制了高效防腐剂,现场应用平均杀菌率大于90%,平均缓蚀率大于80%。同时,针对合注井在实施环空防腐保护(下称环空保护)时,由于注入水的稀释,防腐剂容易失效的问题,适用于合注井的防腐保护液与注入水隔离。该工艺技术具有施工简单、隔离性能好、有效期长和可用于套管变形井等特点,文中对软密封的原理、配方、性能试验和现场应用进行了介绍,在八面河油田应用取得了较好的效果。

罗门哈斯推出下一代VISIONPAD浅沟槽隔离工艺研磨垫

2008年1月30日在全球半导体行业化学机械研磨（CMP）技术及创新方面处于领先地位的罗门哈斯公司电子材料CMP技术事业部近日宣布其先进的VisionPad平台家族又增添一款新品——VisionPad 5000 CMP研磨垫。这款研磨垫可用于65nm以下存储及逻辑芯片的量产，能大大降低浅沟槽隔离工艺（STI）及层间绝缘（ILD）应用的缺陷率。

多晶硅隔离的工艺与价值

采用简易多晶硅隔离方法制造制造集成稳压源是一种新的试验，本文就试验过程中为选择外延提供多晶核心的氧化膜，单，多晶同时淀积的质量控制等问题作了重点讨论。

罗门哈斯推出下一代VISIONPAD^(TM)浅沟槽隔离工艺研磨垫

中国上海-2008年1月30日-在全球半导体行业化学机械研磨（CMP）技术及创新方面处于领先地位的罗门哈斯公司电子材料CMP技术事业部近日宣布其先进的Vision-Pad平台家族又增添一款新品—visionPad^TM 5000 CMP研磨垫。这款研磨垫可用于65nm以下存储及逻辑芯片的量产，能大大降低浅沟槽隔离工艺（STI）及层间绝缘（ILD）应用的缺陷率。

基于工艺的GaN HEMT抗辐射加固研究进展

GaN HEMT由于其具有高频、高温、大功率、抗辐射等特性,在卫星、太空探测、核反应堆等辐射环境中具有广阔的应用前景。虽然GaN HEMT较Si基半导体器件具有优越的抗辐射特性,但距GaN材料本身的抗辐射能力和水平仍存在较大差距,GaN HEMT制造工艺是导致这一差距产生的主要原因。通过调研、分析近几年国际报道的GaN HEMT制造工艺对辐射效应的影响,分别从有源区隔离工艺、GaN沟道层厚度、钝化层结构和衬底材料四个方面作出对比,分析可能的原因,给出一种加固工艺优选方法,以期对我国抗辐射加固GaN HEMT研制提供借鉴和指导。

650MHz÷10/11预置分频器工艺研究

本文介绍了改进后的氧化物隔离等平面-I工艺在专用集成电路中的应用,采用这种工艺制作的650MHz÷10/11预置分频器通过了军用考核(-55℃～+85℃)标准,常温下最高工作频率可达740MHz。

补偿光学光刻工艺特性产生的场内套准误差

分别论述了曝光照明配合和隔离工艺产生的场内套准误差。在当前的光学工艺中 ,变形照明技术 (如环形照明、四极照明及小σ孔径照明技术 )被广泛用来拓展光学光刻的实用极限。同时 ,由于每种照明条件具有不同的光学特性 ,可使场内套准变差。CMOS器件制造中隔离工艺也被视为产生场内套准误差的关键步骤 ,来自热循环和各种类型膜的圆片应力可诱发这种误差。并研究了照明条件配合、隔离模式、场氧化温度、厚度等的效应。通过曝光场比例值进行场内套准误差补偿。

集成电路隔离技术（Ⅰ）

隔离技术是集成电路制造工艺中颇为重要的技术。本文综合介绍了当今半导体加工工艺中所用的隔离技术，包括现有双极和ＭＯＳ器件所用的各种隔离，以及亚微米器件结构所采用的最新隔离方法。有经验的读者可以从本文中得到一些新的启发，而对那些想进一步了解或熟悉集成电路隔离技术的初学者或者有一定基础的工艺工程师来说，本文则不失为一份培训教材。

三代核电大口径爆破阀检修工艺研究

AP1000三代核电首次在压水堆机组中使用大口径爆破阀技术。爆破阀在役检查结果满足技术规范要求,是保证机组安全运行的重要工作。实现爆破阀离线解体检修需要采用冰塞隔离,设计高效率夹套及开发冰塞隔离工艺,并通过冰塞试验,确认冰塞能够满足隔离需求,解决爆破阀检修需排水至低低水位的隔离要求。设计爆破阀解体检修的特殊吊装工艺,并研制专用设备,支持爆破阀解体检修工作。

三门核电爆破阀极限位置检修工艺研究

爆破阀在役检查结果满足技术规范要求是保证机组安全运行的重要工作。实现爆破阀离线解体检修需要采用冰塞隔离,通过设计高效率夹套及开发冰塞隔离工艺,并通过冰塞试验确认冰塞能够满足隔离需求,解决爆破阀检修需排水至低低水位的隔离要求。爆破阀解体检修开发爆破阀特殊吊装工艺,研发专用设备支持爆破阀解体检修。通过冰塞隔离、开发吊装工艺,研发专用设备实现爆破阀自主检修。

Development of CAD software package of intellectualized casting technology

Based on the numerical simulation of solidification, a computer aid design(CAD) software package of casting technique was developed to design the rising system intelligently. The software can calculate the size and locate the situations of the isolated melts. According to the liquid shrinkage of each isolated melts and the standard parameters of risers in the database, the riser’s situation and the size can be identified intelligently as long as the riser’s shape is selected. 3-D software and simulation analysis of CAST soft/computer aid engineering(CAE) software show that the design of the riser and the running system is feasible.

新型单片电源HV—2405E

HV—2405E由美国HARRIS公司出品,它不需要变压器就能直接从交流电源中产生5～24V的直流电压,可应用在紧凑、重量轻、廉价的电源设备上。本文介绍它的原理及使用方法。

罗门哈斯再推新品

2008年1月30日，罗门哈斯公司电子材料CMP技术事业部宣布其Vision Pad平台家族又添新品——Vision Pad 5000CMP研磨垫。这款研磨垫可用于65nm以下存储及逻辑芯片的量产，能大大降低浅沟槽隔离工艺（STI）及层间绝缘（ILD）应用的缺陷率。

让温宝气体转入海底

今年6月,日本政府推出了一个“有效阻止全球气候变暖工作纲要”。纲要提出了在2010年前必须采取的应急措施,其中之一就是利用海洋隔离二氧化碳。全球大气中有7500亿吨二氧化碳,而海洋中的二氧化碳是这一数量的50倍。