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纳米PIC-I分子聚集体的超辐射和Z-扫描研究
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作者 刘春旭 张家骅 刘俊业 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第2期199-202,共4页
分子聚集体在非线性光学和集成光学等领域有潜在的应用前景。纳米结构一维染料分子J 聚集体有许多既不同于单个分子又不同于体材料的奇异性质,即超辐射和巨光学非线性。这种超辐射是由于在几个本征态内振子强度结合在一起,得到一巨跃迁... 分子聚集体在非线性光学和集成光学等领域有潜在的应用前景。纳米结构一维染料分子J 聚集体有许多既不同于单个分子又不同于体材料的奇异性质,即超辐射和巨光学非线性。这种超辐射是由于在几个本征态内振子强度结合在一起,得到一巨跃迁偶极子,因而是超辐射的。跃迁速率与耦合分子个数N成正比。分子聚集体的J 吸收和超辐射发射是共振的。利用Z 扫描技术测量PIC在不同配比下的非线性折射率、非线性吸收系数和非线性极化率。观测到随着链长变短,样品的三阶非线性极化率增大。对这种非线性增强的机制进行了分析和讨论。 展开更多
关键词 纳米PIC-I分子聚集体 超辐射 Z-扫描 一维分子链 光学性质 巨光学非线性
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