1
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连续快速常压化学气相沉积法制备TiO_2自清洁镀膜玻璃 |
翁伟浩
宋晨路
翁文剑
刘军波
应益明
韩高荣
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《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2008 |
8
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2
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用常压化学气相沉积法制备SiO_2/S复合涂层的研究 |
周建新
徐宏
刘京雷
戚学贵
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《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
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2007 |
8
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3
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铜基底上双层至多层石墨烯常压化学气相沉积法制备与机理探讨 |
李浩
付志兵
王红斌
易勇
黄维
张继成
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《物理学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2017 |
5
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4
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TiN镀膜玻璃的常压化学气相沉积法制备及其光电性能研究 |
张涛
赵高凌
韩高荣
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《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2005 |
8
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5
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在线常压化学气相沉积方法制备TiO_2自洁薄膜玻璃(英文) |
庞世红
王承遇
马眷荣
马振珠
张国武
WANG W Pual
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《大连工业大学学报》
CAS
北大核心
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2009 |
2
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6
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基板温度对常压化学气相沉积法制备TiO_2复合薄膜性能的影响 |
林明贤
赵高凌
汪建勋
翁文剑
刘军波
应益明
韩高荣
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《硅酸盐学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2007 |
8
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7
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常压化学气相沉积法制备氮化钛薄膜结构和节能性能研究 |
段钢锋
赵高凌
林小璇
吴历清
杜丕一
翁文剑
汪建勋
韩高荣
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《功能材料》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2010 |
2
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8
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常压化学气相沉积法制备SnO_2微纳米材料及其催化发光性质研究 |
余凌竹
鲁建
路姣
孟国龙
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《电子显微学报》
CAS
CSCD
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2016 |
1
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9
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基于常压等离子体引发化学气相沉积法锡/碳/TiO_(2)纳米纤维的制备及其沉积参数探究 |
唐海军
夏鑫
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《化工新型材料》
CAS
CSCD
北大核心
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2021 |
1
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10
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氢气浓度对常压化学气相沉积ZrC涂层的影响 |
李国栋
郑湘林
熊翔
孙威
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《中国有色金属学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2010 |
4
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11
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掺氮二氧化钛薄膜的常压化学气相沉积及其结构性能研究 |
郭玉
张溪文
韩高荣
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《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2006 |
9
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12
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纳米多孔硅基薄膜的常压等离子体化学气相沉积过程研究 |
夏磊
周荃
徐金洲
张菁
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《东华大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
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2008 |
3
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13
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常压等离子体化学气相沉积制备UHMWPE/SiO_xC_yH_z锂离子杂化隔膜 |
王超梁
彭释
戴协
石建军
张菁
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《东华大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
北大核心
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2016 |
5
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14
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常压化学气相沉积法制备二维六方氮化硼 |
姚茜
陈珊珊
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《曲靖师范学院学报》
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2017 |
0 |
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15
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常压等离子体增强化学气相沉积法表面功能化聚酯织物 |
K. H. Kale
S. S. Palaskar
刘鹏(译)
罗艳(校)
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《国际纺织导报》
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2012 |
1
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16
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常压化学气相沉积硅镀膜玻璃结构、表面形貌与光学性能比较研究 |
莫建良
朱文斌
刘峰
王昕
张溪文
韩高荣
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《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
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2000 |
0 |
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17
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采用紫外激光引发聚合乙炔基三甲基硅烷常压化学气相沉积聚碳硅烷薄膜 |
彭补之
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《材料保护》
CAS
CSCD
北大核心
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2003 |
0 |
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18
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重掺硅片表面APCVD法生长SiO_(2)薄膜的致密性 |
史延爽
王浩铭
田原
张旭
武永超
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《半导体技术》
CAS
北大核心
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2024 |
0 |
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19
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常压CVD法制备氮氧化硅薄膜沉积特性的研究 |
丁新更
杨辉
孟祥森
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《硅酸盐学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2003 |
2
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20
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化学气相沉积技术在先进CMOS集成电路制造中的应用与发展 |
倪金玉
LEE ChoongHyun
何慧凯
赵毅
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《智能物联技术》
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2022 |
2
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