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40nm工艺中的低温注入替代研究与实现
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作者 陈菊英 祁鹏 时锋 《电子技术(上海)》 2024年第5期16-17,共2页
阐述集成电路40nm工艺中的低温注入替代技术,从机理出发,通过实验,发现采用同族其他元素的常温注入来替代低温注入可实现同样的功能,从而实现高效率和低能耗的要求。
关键词 集成电路制造 常温注入技术 低温注入技术
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