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抗蚀剂的干法显影技术研究
1
作者
管会
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1994年第1期1-4,共4页
在以前还只是处于想象境地的抗蚀剂干显影(等离子体显影)已展示了实现的可能性。一方面开发了能够干显影的抗蚀剂,另一方面还发展了能对现有抗蚀剂作干显影的新工艺。本文简述了至今为止所发表的抗蚀剂的干显影技术方法和技术动向,...
在以前还只是处于想象境地的抗蚀剂干显影(等离子体显影)已展示了实现的可能性。一方面开发了能够干显影的抗蚀剂,另一方面还发展了能对现有抗蚀剂作干显影的新工艺。本文简述了至今为止所发表的抗蚀剂的干显影技术方法和技术动向,也介绍了我们所做的有关工作。
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关键词
等离子刻蚀
抗蚀剂
干显影
工艺
下载PDF
职称材料
丙烯酸-丙烯酸酯共聚物的水溶性
被引量:
4
2
作者
孙彦璞
尹华兵
任孝修
《北京化工大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
2002年第6期75-78,82,共5页
利用自由基型溶液聚合的方法 ,合成了二元、三元和四元系列丙烯酸酯共聚物 ,对它们的水溶性进行了研究 ,探讨了分子量、亲水性基团含量及反应条件对共聚物水溶性的影响。
关键词
丙烯酸-丙烯酸酯共聚物
自由基型溶液聚合
水溶性
水
显影
型
干
膜抗蚀剂
显影
剂
成膜剂
下载PDF
职称材料
题名
抗蚀剂的干法显影技术研究
1
作者
管会
机构
电子工业部第四十七研究所
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1994年第1期1-4,共4页
文摘
在以前还只是处于想象境地的抗蚀剂干显影(等离子体显影)已展示了实现的可能性。一方面开发了能够干显影的抗蚀剂,另一方面还发展了能对现有抗蚀剂作干显影的新工艺。本文简述了至今为止所发表的抗蚀剂的干显影技术方法和技术动向,也介绍了我们所做的有关工作。
关键词
等离子刻蚀
抗蚀剂
干显影
工艺
分类号
TN405.98 [电子电信—微电子学与固体电子学]
下载PDF
职称材料
题名
丙烯酸-丙烯酸酯共聚物的水溶性
被引量:
4
2
作者
孙彦璞
尹华兵
任孝修
机构
北京化工大学理学院
出处
《北京化工大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
2002年第6期75-78,82,共5页
文摘
利用自由基型溶液聚合的方法 ,合成了二元、三元和四元系列丙烯酸酯共聚物 ,对它们的水溶性进行了研究 ,探讨了分子量、亲水性基团含量及反应条件对共聚物水溶性的影响。
关键词
丙烯酸-丙烯酸酯共聚物
自由基型溶液聚合
水溶性
水
显影
型
干
膜抗蚀剂
显影
剂
成膜剂
Keywords
acrylic acid and acrylic ester copolymers
free radical polymerization
water-solubility
分类号
TQ577.4 [化学工程—精细化工]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
抗蚀剂的干法显影技术研究
管会
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
1994
0
下载PDF
职称材料
2
丙烯酸-丙烯酸酯共聚物的水溶性
孙彦璞
尹华兵
任孝修
《北京化工大学学报(自然科学版)》
CAS
CSCD
2002
4
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职称材料
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