1
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干法刻蚀中晶圆表面温度控制研究 |
赵洋
高渊
宋洁晶
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《电子工业专用设备》
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2023 |
1
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2
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GaAs基VCSEL干法刻蚀技术研究综述 |
范昊轩
张文博
李沐泽
郝永芹
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《红外》
CAS
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2023 |
1
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3
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电子特气在低温干法刻蚀中的应用与发展 |
陈润泽
花莹曦
张建伟
倪珊珊
吝秀锋
李欣
孙加其
王佳佳
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《低温与特气》
CAS
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2023 |
0 |
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4
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碳化硅(SiC)器件制造工艺中的干法刻蚀技术 |
柴常春
杨银堂
朱作云
李跃进
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《西安电子科技大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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1998 |
4
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5
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深高宽比微结构的干法刻蚀 |
王旭迪
张永胜
胡焕林
汪力
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《真空》
CAS
北大核心
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2004 |
8
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6
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微加工干法刻蚀工艺模拟工具的研究现状 |
周荣春
张海霞
郝一龙
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《微纳电子技术》
CAS
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2003 |
7
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7
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XeF_2对SiO_2/Si的干法刻蚀 |
尉伟
吴晓伟
吕凡
肖云峰
付绍军
裴元吉
韩正甫
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《中国科学技术大学学报》
CAS
CSCD
北大核心
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2009 |
2
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8
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携带气体对二氧化硅干法刻蚀的影响 |
敬小成
黄美浅
姚若河
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《微电子学》
CAS
CSCD
北大核心
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2005 |
4
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9
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铌酸锂干法刻蚀的研究进展 |
要彦清
李金洋
吴建杰
陈方
祁志美
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《微纳电子技术》
CAS
北大核心
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2012 |
3
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10
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干法刻蚀制作场发射阴极阵列 |
尉伟
周红军
徐向东
付绍军
王勇
裴元吉
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《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2007 |
2
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11
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感应耦合等离子体干法刻蚀中光刻胶掩模的异常性 |
乔辉
刘诗嘉
刘向阳
朱龙源
兰添翼
赵水平
王妮丽
李向阳
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《半导体光电》
CAS
北大核心
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2016 |
2
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12
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3C-SiC单晶薄膜的干法刻蚀研究 |
柴常春
杨银堂
李跃进
姬慧莲
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《西安电子科技大学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2001 |
2
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13
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感应耦合等离子体干法刻蚀锑化铟薄膜研究 |
陈俊芳
吴先球
孙番典
赵智昊
樊双利
符斯列
黄钊洪
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《固体电子学研究与进展》
CAS
CSCD
北大核心
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2004 |
2
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14
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氮化镓基高亮度发光二极管材料外延和干法刻蚀技术 |
罗毅
邵嘉平
郭文平
韩彦军
胡卉
薛松
孙长征
郝智彪
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《中国有色金属学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
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2004 |
1
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15
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HgCdTe干法刻蚀的掩模技术研究 |
周文洪
叶振华
胡晓宁
丁瑞军
何力
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《激光与红外》
CAS
CSCD
北大核心
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2007 |
1
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16
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硅栅干法刻蚀工艺中腔室表面附着物研究 |
张庆钊
谢常青
刘明
李兵
朱效立
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《微细加工技术》
EI
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2007 |
3
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17
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基于干法刻蚀技术的氮化镓MEMS加工工艺(英文) |
杨振川
吕佳楠
闫桂珍
陈敬
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《纳米技术与精密工程》
EI
CAS
CSCD
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2011 |
1
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18
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高Al组分AlGaN的ICP干法刻蚀 |
亢勇
李雪
何政
方家熊
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《激光与红外》
CAS
CSCD
北大核心
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2005 |
1
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19
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亚微米干法刻蚀技术的现状 |
刘云峰
陈国平
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《电子器件》
CAS
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1998 |
3
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20
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三结砷化镓太阳电池干法刻蚀技术研究 |
王训春
苏宝法
贾巍
徐建文
姜德鹏
池卫英
雷刚
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《贵州大学学报(自然科学版)》
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2014 |
3
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