入射光束角度及强度偏差对多光束干涉光刻结果的影响

建立了多光束干涉光刻干涉场内光强分布的数学模型,仿真计算了双光束、三光束、四光束干涉曝光情况下,入射光束存在角度偏差以及各入射光强不同时的干涉图样,并与理想状态的模拟结果进行对比.结果表明:光束入射角度偏差主要影响干涉图样的形状和周期;入射光的光强不同是降低图形对比度的主要因素.利用402nm波长激光光源进行多光束干涉光刻实验.设定激光器输出功率32mW,每两束光夹角为16°,通过控制曝光、显影工艺,双光束干涉光刻产生周期为1.4μm的光栅、点阵和孔阵结构,三光束干涉光刻产生周期为1.7μm的六边形图形阵列.该模型可为利用干涉光刻技术制备微细周期结构,提高光刻图形质量,提供一定的理论参考.

偏振光干涉强度到椭圆偏振光电矢量的变换

在偏振光实验中,测量量是偏振光干涉光强分布,而最后要表示的是椭圆偏振光电矢量。研究了偏振 光干涉与椭圆偏振光电矢量之间的转换关系,解决了椭圆偏振光电矢量的测量问题。

扩展光源照明下的杨氏双缝干涉场分析

首先利用波的叠加与干涉理论,分别给出单色和复色扩展光源照明时杨氏双缝干涉场的强度分布公式,然后利用Matlab软件,模拟分析不同参量下单色和复色扩展光源干涉场的强度分布及其干涉条纹衬比度的变化规律。结果表明,在单色扩展光源照明情况下,当光源宽度增加时,干涉场的背景光强变大,干涉条纹衬比度下降,直至光场变为均匀分布,即条纹衬比度变为零。之后光强又出现从极大到极小的周期性变化,但条纹衬比度很小。当双缝间距增加时,干涉场的变化趋势与扩展光源宽度增加时类似。当光源与双缝屏之间的距离增加时,条纹衬比度呈振荡式增大,并最终趋近于一定值。在复色扩展光源照明的情况下,光强分布一般较复杂,但选取合适的参量,仍可获得由极大到极小周期性变化的干涉场。

两束部分偏振光的干涉场分析

从波的叠加与干涉的基础理论出发,给出了当两束部分偏振光的一个光强极值方向平行时,其干涉场的光强分布和干涉条纹衬比度表达式.该表达式可应用于自然光、线偏振光和由二者组成的部分偏振光参与的干涉过程.在此基础上,对线偏振光与线偏振光、自然光与自然光、线偏振光与自然光等不同偏振态光叠加时的干涉场进行了具体分析,给出了其相应干涉场的光强分布及其干涉条纹衬比度的具体表达式,得到的结果对识别前述各种偏振态光形成的干涉场以及提高干涉仪中相应干涉场的干涉条纹衬比度具有重要意义.