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HP-LEC法InP单晶生长的引晶、放肩过程研究 被引量:1
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作者 李玉茹 黄清芳 +3 位作者 李晓岚 邵会民 史艳磊 孙聂枫 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2013年第11期840-844,850,共6页
摘要:利用自制高压单晶炉内采用高压液封直拉技术(HP—LEC)研究了〈100〉InP晶体生长过程中引晶和放肩阶段的控制等因素对单晶生长的影响。采用平放肩工艺进行了3~4英寸(1英寸=2.54cm)InP单晶的生长。通过多次实验,可重复生长... 摘要:利用自制高压单晶炉内采用高压液封直拉技术(HP—LEC)研究了〈100〉InP晶体生长过程中引晶和放肩阶段的控制等因素对单晶生长的影响。采用平放肩工艺进行了3~4英寸(1英寸=2.54cm)InP单晶的生长。通过多次实验,可重复生长出直径80~110mm、长62~112mm的3~4英寸InP单晶锭。介绍了平放肩工艺技术特点和应用效果。经过统计和分析,认为InP晶体生长中放肩阶段的孪晶产生由多种因素造成,不存在所谓的“临界放肩角”。通过热场调整和工艺控制,可以用较低的提拉速度在较短时间内生长出3~4英寸头部;通过等径控制,可以生长出无孪晶或挛晶较少的高质量InP单晶。 展开更多
关键词 直径4英寸 INP单晶 平放肩 孪晶 高压液封直拉技术
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