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一种评价CCOS抛光工艺误差抑制能力的方法 被引量：3
1
作者 王佳 范斌 +2 位作者 万勇建 施春燕 卓彬 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第7期184-187,共4页
结合光学加工中材料去除的卷积模型和功率谱密度函数,建立了描述CCOS抛光工艺抑制不同频段误差能力的数学模型——平滑谱函数.利用Rigid Conformal磨盘抛光620mm口径微晶平面玻璃,通过计算平滑谱函数曲线,将CCOS抛光工艺抑制不同频段误... 结合光学加工中材料去除的卷积模型和功率谱密度函数,建立了描述CCOS抛光工艺抑制不同频段误差能力的数学模型——平滑谱函数.利用Rigid Conformal磨盘抛光620mm口径微晶平面玻璃,通过计算平滑谱函数曲线,将CCOS抛光工艺抑制不同频段误差的能力表示为归一化且无量纲的频谱曲线.计算结果表明平滑谱函数曲线能以数值大小评价CCOS抛光工艺对不同频率误差的抑制能力. 展开更多
关键词 光学加工 平滑谱函数 功率谱密度 中高频误差 卷积模型
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