光刻机多面体主基板的设计与算法

论述了一种扫描式投影曝光光刻机主基板的设计制造过程,在该主基板上需要安装投影物镜和多个纳米级高精度测量分系统。为满足设计需求,规划了整机内部结构所需占用的最小三维空间,并基于计算几何的方法设计主基板和测量支架。首先进行数据的采集,对主基板和测量支架的安装面上的接口和支撑位置进行有效定义,明确所有相关接口在三维空间内的位置数据;其次采用凸包算法求解获得主基板多面体的外形轮廓,由于光刻机内部结构的复杂性,还要对模型进行局部修正;再次,结合平面切剖多面体算法设计主基板内部结构;最后,经有限元仿真验证取得了提高振动模态和减小结构质量的双重改进效果,达到了设计性能指标并且该结构适合工程制造。