无屏蔽罩的矩形平面磁控溅射靶的设计

通过理论分析、实际设计和实验 ,对矩形平面磁控溅射靶表面水平磁感应强度B的传统取值上限进行了拓展 .结果表明 :若阴极靶体下表面和 4个侧面的的磁感应强度被屏蔽低于 0 .0 0 0 5T ,同时上表面覆盖同一靶材 ,则可抛弃屏蔽罩 ,采用裸靶结构 ,靶表面的水平磁感应强度B就可以远高于 0 .0 5T ,达到 0 .0 9T ;此外 ,B的增加显著降低了磁控溅射镀膜工艺的着火电压和维持放电电压 。

利用反应溅射沉积在γ—Al_2O_3粉末上制备TiO_x/γ—A1_2O_3催化剂

在微波ECR等离子体中,用平面磁控溅射靶,在γ-Al_2O_2粉末上沉积了TiO_x膜.为了使γ-Al_2O_3颗粒能被TiO_x均匀覆盖,使用了振荡器.文中详细地介绍了实验装置.甲烷转化率,C_2和C_2H_2的产额与选择性的对比结果表明:这种方法制备的催化剂优于传统的化学方法所制备的催化剂,同时也表明振荡器的作用明显.

四米槽式太阳能真空集热管镀膜设备的发展概述

本文主要介绍了制备四米槽式太阳能真空集热管的间歇式单体镀膜机和自动连续镀膜线,对两种类型设备的优缺点和存在的问题进行了对比分析,可以为其他行业镀膜设备的设计改进提供借鉴。