用于并行激光直写的连续深浮雕衍射透镜阵列研究

研究了一种用于并行激光直写的连续深浮雕衍射透镜阵列方法.该方法采用连续浮雕衍射透镜阵列替换传统并行激光直写中的物镜阵列,在兼顾系统分辨力基础上,克服了波带片等衍射透镜阵列衍射效率低的缺点;同时因采用深浮雕结构优化环带宽度,可降低阵列的制作难度.针对并行激光直写系统阵列F/#小的特点,在建立连续深浮雕衍射透镜阵列非旁轴近似聚焦模型基础上,设计、制作和测试了波长为441.6nm,F/#为7.5的连续深浮雕衍射透镜阵阵列.测试结果表明:该阵列的衍射效率优于70%,远高于波带片阵列的40%.

采用DMD并行输入的激光干涉直写方法

基于HoloMaker-IV激光干涉直写系统的数字微反射镜(digital micro-mirror device,DMD)并行输入光刻方式,提出了根据图形特性的智能边界处理,实现了超高分辨率图像的高效激光直写干涉光刻。通过DMD输入图形与系统干涉控制参数相互匹配处理的方式对256色位图进行了图形格式转换,从而支持2D/3D,3D光变图像以及各种微图形文字的处理,为高效率制作高品质光变图像提供了新方法。实验表明:在2400DPI分辨率下,该方法比传统逐点光刻法的运行效率提高90倍。给出了高质量的实验结果。

高分辨率衍射图形的DMD并行激光干涉直写

通过将数字微反射镜(Digital Micro-mirror Device,DMD)输入阵列图形微缩干涉成像,激光干涉直写系统在光刻胶板上得到缩小的干涉光斑图形,像素特征尺寸3.5μm,干涉条纹周期1μm.控制刻蚀深度、干涉条纹取向和DMD输入图形的结构,系统能数字化完成2D/3D、3D光变图像、超微图形文字以及二元光学元件的制作,实现了超高分辨率图形与高效的干涉光刻.给出了实验结果.

灰度掩模并行激光直写系统的总体设计

灰度掩模法是一种新的二元光学器件制做方法。研究了并行激光直写高性能灰度掩模的工作原理 ,对空间光调制器 (SML )、精缩投影物镜和二维气浮平台等关键单元进行了分析 ,给出了并行激光直写系统的主要技术指标和初步实验结果。

亚微米并行激光直写系统的建模及仿真研究

提出了一种基于强度调制型空间光调制器 (SL M)的并行激光直写系统 ,建立了该系统的数学模型。并以闪耀光栅的制作为例 ,给出了该并行激光直写系统的仿真分析结果。研究表明 ,该系统可实现的最小特征尺寸达到亚 μm级 ,采用逐个图形进行曝光的方式使其具有内在的并行特性 ,可大大提高激光直写的速度 ;该系统所制作的二元光学器件类似连续轮廓器件 ,理论上可达到 80

一种数字化的全息透镜制作方法

提出了一种采用并行激光直写技术的数字化全息透镜制作方法,先对离轴全息透镜进行理论模拟,得到条纹分布的数字图像,根据激光直写系统的光学参数,对生成的全息透镜模拟图像进行缩放处理,然后分块拼接曝光,实验得到了尺寸为3.1 mm×3.1 mm的正方形离轴全息透镜,最小条纹周期为1.1μm,在532 nm激光照射下,透镜焦距为6.2 mm,最大空频处一级衍射光的衍射角为5.9°。本方法为制作全息透镜提供了一种有效地新方法。

微细加工技术与设备

TN305.7 2003064448MEMS工艺中TMAH湿法刻蚀的研究=Research onTMAH wet etching in MEMS[刊,中]/罗元(重庆大学光电工程学院.重庆(400044)),李向东…∥半导体光电.-2003,24(2).-127-130研究了MEMS工艺中的TMAH湿法刻蚀获得光滑刻蚀表面的工艺。实验结果表明,要获得理想的刻蚀效果,刻蚀液配方和刻蚀条件的选择是非常重要的因素。