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光刻工艺中金属层划片槽幻影的产生和解决方案
1
作者
周敏祺
《电子与封装》
2013年第7期25-27,共3页
在光刻工艺中的显影步骤,显影液在溶解光刻胶的过程中,不同区域光刻胶的溶解速度存在着明显的差异,使得晶圆表面的显影反应存有时间差别。这种反应速率上的差别在实际的生产过程中会产生一些缺陷。金属层划片槽的幻影现象是该类缺陷的...
在光刻工艺中的显影步骤,显影液在溶解光刻胶的过程中,不同区域光刻胶的溶解速度存在着明显的差异,使得晶圆表面的显影反应存有时间差别。这种反应速率上的差别在实际的生产过程中会产生一些缺陷。金属层划片槽的幻影现象是该类缺陷的一种表现形式。如何去控制这些缺陷的产生,对于提高生产线良率将会显得很重要。文章针对光刻工艺中无钛-氮化钛膜层覆盖的金属层划片槽出现的幻影,分析并提出了产生该现象的机制,与此同时提出了几种解决该现象的方案。
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关键词
光刻工艺
改善
金属层划片槽
幻影缺陷改善
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职称材料
题名
光刻工艺中金属层划片槽幻影的产生和解决方案
1
作者
周敏祺
机构
上海交通大学
出处
《电子与封装》
2013年第7期25-27,共3页
文摘
在光刻工艺中的显影步骤,显影液在溶解光刻胶的过程中,不同区域光刻胶的溶解速度存在着明显的差异,使得晶圆表面的显影反应存有时间差别。这种反应速率上的差别在实际的生产过程中会产生一些缺陷。金属层划片槽的幻影现象是该类缺陷的一种表现形式。如何去控制这些缺陷的产生,对于提高生产线良率将会显得很重要。文章针对光刻工艺中无钛-氮化钛膜层覆盖的金属层划片槽出现的幻影,分析并提出了产生该现象的机制,与此同时提出了几种解决该现象的方案。
关键词
光刻工艺
改善
金属层划片槽
幻影缺陷改善
Keywords
lithography process improvement
metal layer scribe line
ghost image defect improvement
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
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1
光刻工艺中金属层划片槽幻影的产生和解决方案
周敏祺
《电子与封装》
2013
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