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光刻工艺中金属层划片槽幻影的产生和解决方案
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作者 周敏祺 《电子与封装》 2013年第7期25-27,共3页
在光刻工艺中的显影步骤,显影液在溶解光刻胶的过程中,不同区域光刻胶的溶解速度存在着明显的差异,使得晶圆表面的显影反应存有时间差别。这种反应速率上的差别在实际的生产过程中会产生一些缺陷。金属层划片槽的幻影现象是该类缺陷的... 在光刻工艺中的显影步骤,显影液在溶解光刻胶的过程中,不同区域光刻胶的溶解速度存在着明显的差异,使得晶圆表面的显影反应存有时间差别。这种反应速率上的差别在实际的生产过程中会产生一些缺陷。金属层划片槽的幻影现象是该类缺陷的一种表现形式。如何去控制这些缺陷的产生,对于提高生产线良率将会显得很重要。文章针对光刻工艺中无钛-氮化钛膜层覆盖的金属层划片槽出现的幻影,分析并提出了产生该现象的机制,与此同时提出了几种解决该现象的方案。 展开更多
关键词 光刻工艺改善 金属层划片槽 幻影缺陷改善
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