InGaAs／GaAs和InGaAs／AlGaAs应变层量子阱中的子带弛豫过程

利用时间分辨光谱技术，在１１～９０Ｋ温度范围研究了不同阱宽的ＩｎＧａＡｓ／ＧａＡｓ和ＩｎＧａＡｓ／ＡＩＧａＡｓ应变层量子阱子带弛豫过程，讨论了这两种量子阱材料中不同散射机制的作用．

电场下应变层量子阱AlN/GaN(001)的子带结构

采用有效质量理论６带模型，研究了电场下应变层量子阱ＡｌＮ／ＧａＮ（００１）的价带子能带结构．具体计算了价带子能级的色散曲线，分析了电场和应变效应对子能带的影响．还计算了不同电场和不同阱宽的空穴子能级．

发光、荧光材料

O482.31 95032051MOCVD的InGaAs/GaAs应变层量子阱的低温光致发光研究=Studies on low temperature photo-lumineseence spectra of InGaAs/GaAs stra-ined quantum wells by MOCVD[刊,中]/王小军,王启明,庄婉如,郑婉华(中科院半导体所集成光电子学国家重点联合实验室.北京(100083))。