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酸性蚀刻中图形补偿的研究
1
作者
刘斌
《印制电路信息》
2015年第A01期96-106,共11页
文章通过对不同设计方式的线路侧蚀进行测试,根据测试结果对不同设计方式的线路使用不同的底片补偿,达到酸蚀后线宽一致的目的,同时还需要考虑工艺制程中对蚀刻因子的影响,如:曝光、显影和蚀刻。
关键词
侧蚀
底片补偿
酸蚀
蚀刻因子
曝光
显影
蚀刻
下载PDF
职称材料
题名
酸性蚀刻中图形补偿的研究
1
作者
刘斌
机构
天津普林电路股份有限公司
出处
《印制电路信息》
2015年第A01期96-106,共11页
文摘
文章通过对不同设计方式的线路侧蚀进行测试,根据测试结果对不同设计方式的线路使用不同的底片补偿,达到酸蚀后线宽一致的目的,同时还需要考虑工艺制程中对蚀刻因子的影响,如:曝光、显影和蚀刻。
关键词
侧蚀
底片补偿
酸蚀
蚀刻因子
曝光
显影
蚀刻
Keywords
Side Etching
Film Compensation
Etching
Etching Factor
Exposure
Develop
Etching
分类号
TN41 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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作者
出处
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1
酸性蚀刻中图形补偿的研究
刘斌
《印制电路信息》
2015
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