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硅醚的选择性去保护
1
作者
李雪明
杨东东
徐洪斌
《化工时刊》
CAS
2012年第6期47-50,共4页
用硅烷试剂保护羟基,介绍了通过底物控制(保护基团立体效应和电效应,硅醚分子的结构环境与电子云密度、邻近官能团影响)和试剂控制两种手段,在有多个硅烷保护基存在下的选择性脱保护。
关键词
硅醚
底物控制和试剂控制
选择性去保护
下载PDF
职称材料
题名
硅醚的选择性去保护
1
作者
李雪明
杨东东
徐洪斌
机构
浙江新和成股份有限公司
出处
《化工时刊》
CAS
2012年第6期47-50,共4页
文摘
用硅烷试剂保护羟基,介绍了通过底物控制(保护基团立体效应和电效应,硅醚分子的结构环境与电子云密度、邻近官能团影响)和试剂控制两种手段,在有多个硅烷保护基存在下的选择性脱保护。
关键词
硅醚
底物控制和试剂控制
选择性去保护
Keywords
silyl ether substrate control and reagent control selective deprotection
分类号
O621.25 [理学—有机化学]
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
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1
硅醚的选择性去保护
李雪明
杨东东
徐洪斌
《化工时刊》
CAS
2012
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