利用废弃微硅粉制备纳米SiO_2粉体

以低含量微硅粉为原料,经酸浸,HF酸溶解,水解,干燥等步骤制备了纳米SiO2粉体。采用X射线衍射(XRD),傅里叶红外光谱(FT-IR),冷场发射扫描电镜(SEM),及能谱(EDS)等手段对原料和产物进行了表征。结果表明制备的纳米SiO2粉体中的SiO2含量>97%,粒径分布均匀,平均粒径约90nm,BET吸附比表面积为210m2/g。本文对废弃微硅粉的资源化具有积极的作用。

利用废弃微硅粉制备纳米SiO_2粉体

本文以低含量微硅粉为原料,经酸浸、HF酸溶解、水解、干燥等步骤制备了纳米SiO2粉体。采用X-射线衍射(XRD),傅里叶红外光谱(FT-IR),冷场发射扫描电镜(SEM)及能谱(EDS)等手段对原料和产物进行了表征。结果表明制备的纳米SiO2粉体的SiO2含量>97%,粒径分布均匀,平均粒径约90nm,BET吸附比表面积为210m2/g。本文对废弃微硅粉的资源化具有积极的作用。