应力对铋系铁电薄膜性能影响的研究进展

应力普遍存在于铁电薄膜中,是影响薄膜性能和薄膜电子器件可靠性的一个重要参数。本文系统介绍了本小组近年来所进行的应力对铋系铁电薄膜(Bi3.25La0.75Ti3O12,Bi3.15Nd0.85Ti3O12和SrBi2Ta2O9)的铁电性能及与铁电存储有关的开关、疲劳性能等影响的研究。结果表明:张应力有利于增大薄膜的剩余极化和开关电荷量,而压应力却使得两者都降低。还发现:应力对薄膜的开关时间、矫顽场、疲劳性能等都有影响。其结果都与“应力作用下薄膜内铁电畴的重新取向”有关。